| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第17-37页 |
| 1.1 引言 | 第17-18页 |
| 1.2 二维纳米材料简介 | 第18-23页 |
| 1.2.1 石墨烯 | 第19页 |
| 1.2.2 黑磷 | 第19-20页 |
| 1.2.3 氮化硼 | 第20-21页 |
| 1.2.4 二硫化钼 | 第21-22页 |
| 1.2.5 硅烯和锗烯 | 第22-23页 |
| 1.3 二维的制备方法 | 第23-27页 |
| 1.3.1 机械剥离法 | 第23-24页 |
| 1.3.2 气相生长 | 第24-26页 |
| 1.3.3 模板辅助合成法 | 第26-27页 |
| 1.4 二维材料性质及其应用 | 第27-35页 |
| 1.4.1 二维材料能带性质 | 第27-28页 |
| 1.4.2 二维材料的电学性质 | 第28-29页 |
| 1.4.3 二维材料的光学性质 | 第29-32页 |
| 1.4.4 二维材料的能谷电子学性质 | 第32-35页 |
| 1.5 本论文的主要研究目的、意义和研究内容 | 第35-37页 |
| 1.5.1 研究目的与意义 | 第35-36页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第36-37页 |
| 第2章 堆垛,单层和螺旋结构WS_2的合成制备 | 第37-59页 |
| 2.1 研究动机与意义 | 第37页 |
| 2.2 堆垛,单层,螺旋结构WS_2纳米薄膜生长机理探讨 | 第37-41页 |
| 2.2.1 垂直堆垛结构 | 第38-39页 |
| 2.2.2 单层结构 | 第39页 |
| 2.2.3 螺旋结构 | 第39-41页 |
| 2.3 堆垛,单层,螺旋结构WS_2纳米薄膜的合成及表征 | 第41-57页 |
| 2.3.1 实验耗材与设备 | 第41页 |
| 2.3.2 堆垛,单层,螺旋WS_2纳米薄膜的制备装置 | 第41-42页 |
| 2.3.3 堆垛,单层,螺旋WS_2纳米薄膜的制备及表征 | 第42-47页 |
| 2.3.4 螺旋结构复杂形貌机理分析 | 第47-57页 |
| 2.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第3章 螺旋结构非线性光学性质 | 第59-77页 |
| 3.1 研究动机与意义 | 第59页 |
| 3.2 光学测试系统搭建 | 第59-60页 |
| 3.3 测试样品制备 | 第60-62页 |
| 3.3.1 测试样品详细说明 | 第61-62页 |
| 3.4 光学测试及结构分析 | 第62-76页 |
| 3.4.1 螺旋结构非线性光学测试说明 | 第63页 |
| 3.4.2 螺旋结构二阶非线性测试 | 第63-64页 |
| 3.4.3 螺旋结构三阶非线性测试 | 第64-65页 |
| 3.4.4 螺旋结构堆垛结构表征 | 第65-66页 |
| 3.4.5 螺旋结构非线性偏振测试 | 第66-67页 |
| 3.4.6 螺旋结构二阶非线性偏振性测试 | 第67-69页 |
| 3.4.7 堆垛结构二阶非线性偏振性测试 | 第69-70页 |
| 3.4.8 晶体对称性和边缘对称性破缺对螺旋结构非线性光学性质的影响 | 第70-71页 |
| 3.4.9 螺旋结构二阶非线性测试分析 | 第71-72页 |
| 3.4.10 螺旋结构与商业化BBO晶体倍频效率对比 | 第72-73页 |
| 3.4.11 螺旋结构WS_2的倍频响应曲线 | 第73-76页 |
| 3.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 第4章 过渡金属WS_2的发光动力学研究 | 第77-92页 |
| 4.1 研究动机与意义 | 第77页 |
| 4.2 单层WS_2变功率光致发光,Raman测试 | 第77-80页 |
| 4.3 单层WS_2不同温度下变功率光致发光测试 | 第80-81页 |
| 4.4 单层WS_2变功率瞬态光谱测试 | 第81-83页 |
| 4.5 单层WS_2同功率变温测试 | 第83-86页 |
| 4.6 堆垛,单层,螺旋结构的光致发光及拉曼光谱研究 | 第86页 |
| 4.7 两种结构反射透射模式吸收光谱 | 第86-90页 |
| 4.8 本章小结 | 第90-92页 |
| 结论与展望 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第109-111页 |
| 附录B攻读学位期间所申请的专利 | 第111-112页 |
| 附录C攻读学位期间所参与的研究项目 | 第112页 |
