| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 课题研究目的及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 Ni-Mn-Ga磁驱动形状记忆合金 | 第11-14页 |
| 1.2.1 Ni-Mn-Ga合金的晶体结构 | 第12页 |
| 1.2.2 Ni-Mn-Ga合金薄膜的马氏体相变 | 第12-13页 |
| 1.2.3 Ni-Mn-Ga合金薄膜的磁感生应变 | 第13-14页 |
| 1.3 Ni-Mn-Sn磁驱形状记忆合金 | 第14-15页 |
| 1.3.1 Ni-Mn-Sn合金的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.3.2 Ni-Mn-Sn合金的马氏体相变 | 第15页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 合金薄膜制备及研究方法 | 第16-21页 |
| 2.1 合金薄膜制备工艺 | 第16-19页 |
| 2.1.1 靶材制备 | 第16页 |
| 2.1.2 衬底清洗 | 第16页 |
| 2.1.3 磁控溅射 | 第16-18页 |
| 2.1.4 薄膜制备工艺流程及参数的设置 | 第18-19页 |
| 2.2 合金薄膜研究方法 | 第19-20页 |
| 2.2.1 薄膜成分分析 | 第19页 |
| 2.2.2 薄膜组织结构分析 | 第19页 |
| 2.2.3 薄膜膜厚测量 | 第19-20页 |
| 2.3 本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 Ni-Mn-Sn合金薄膜的制备工艺及微观结构 | 第21-35页 |
| 3.1 引言 | 第21页 |
| 3.2 制备工艺与Ni-Mn-Sn合金薄膜化学成分的关系 | 第21-24页 |
| 3.3 制备工艺对Ni-Mn-Sn合金薄膜表面形貌的影响 | 第24-29页 |
| 3.4 Ni-Mn-Sn合金薄膜的生长及膜厚 | 第29-32页 |
| 3.5 Ni-Mn-Sn合金薄膜的微观结构 | 第32-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 Ni-Mn-Sn合金薄膜的马氏体相变及磁性微观机制 | 第35-52页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 第一性原理计算理论 | 第35-37页 |
| 4.2.1 密度泛函理论 | 第35-36页 |
| 4.2.2 赝势方法及CASTEP模块 | 第36-37页 |
| 4.3 计算方法 | 第37-39页 |
| 4.3.1 Co掺杂Ni-Mn-Sn结构建立及计算方法 | 第37-38页 |
| 4.3.2 压力作用下Ni-Mn-Sn合金结构建立及计算方法 | 第38-39页 |
| 4.4 Co掺杂对Ni-Mn-Sn合金磁性及马氏体相变的影响机理 | 第39-44页 |
| 4.5 压力对Ni-Mn-Sn合金磁性能及马氏体相变的作用机理 | 第44-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
