| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 多元氮化物硬质反应膜的发展及现状 | 第10-12页 |
| 1.1.1 金属氮化物硬质反应膜的发展过程 | 第10-11页 |
| 1.1.2 多组元金属氮化物硬质反应膜的材料基础 | 第11-12页 |
| 1.2 (CrTiAl)N硬质膜的研究现状与问题 | 第12-13页 |
| 1.3 多组元金属氮化物硬质反应膜的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的研究目标 | 第14-15页 |
| 1.5 本课题的执行技术路线 | 第15-16页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第16-24页 |
| 2.1 沉积设备 | 第16-17页 |
| 2.1.1 镀膜设备简介 | 第17页 |
| 2.2 靶材与基材 | 第17-18页 |
| 2.2.1 基体材料表面预处理 | 第18页 |
| 2.3 膜层的显微组织、相结构及成分测试分析 | 第18页 |
| 2.3.1 Ti-Al-Cr-N膜层的表面形貌与成分测试 | 第18页 |
| 2.3.2 Ti-Al-Cr-N膜层的成分配比对相结构的影响测试 | 第18页 |
| 2.4 Ti-Al-Cr-N膜层中成分变化对硬度的影响 | 第18-19页 |
| 2.5 (CrTiAl)N硬质反应膜沉积中工艺参数的设定 | 第19-24页 |
| 2.5.1 工艺参数对膜层的影响 | 第19-20页 |
| 2.5.2 试验方法及沉积工艺设定 | 第20-24页 |
| 第3章 (CrTiAl)N膜层——CrN基 | 第24-36页 |
| 3.1 (CrTiAl)N膜层的表面与断面形貌 | 第24-28页 |
| 3.1.1 (CrTiAl)N膜层的表面形貌 | 第24-25页 |
| 3.1.2 (CrTiAl)N膜层的断面形貌 | 第25-28页 |
| 3.2 (CrTiAl)N膜层的成分分析 | 第28-29页 |
| 3.2.1 (CrTiAl)N膜层的表面成分分析 | 第28-29页 |
| 3.3 (CrTiAl)N膜层的XRD分析 | 第29-32页 |
| 3.4 (CrTiAl)N膜层的力学性能分析 | 第32-34页 |
| 3.4.1 (CrTiAl)N膜层的硬度分析 | 第32-34页 |
| 3.5 本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 (TiCrAl)N膜层——TiN基 | 第36-46页 |
| 4.1 (TiCrAl)N膜层的表面与断面形貌 | 第36-39页 |
| 4.1.1 (CrTiAl)N膜层的表面形貌 | 第36-37页 |
| 4.1.2 (TiCrAl)N膜层的断面形貌 | 第37-39页 |
| 4.2 (TiCrAl)N膜层的成分分析 | 第39-40页 |
| 4.2.1 (TiCrAl)N膜层的表面成分分析 | 第39-40页 |
| 4.3 (TiCrAl)N膜层的XRD分析 | 第40-43页 |
| 4.4 (TiCrAl)N膜层的力学性能分析 | 第43-45页 |
| 4.4.1 (TiCrAl)N膜层的硬度分析 | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 (AlCrTi)N膜层——AlN基 | 第46-56页 |
| 5.1 (AlCrTi)N膜层的表面与断面形貌 | 第46-49页 |
| 5.1.1 (AlCrTi)N膜层的表面形貌 | 第46-47页 |
| 5.1.2 (AlCrTi)N膜层的断面形貌 | 第47-49页 |
| 5.2 (AlCrTi)N膜层的成分分析 | 第49-50页 |
| 5.3 (AlCrTi)N膜层的XRD分析 | 第50-53页 |
| 5.4 (AlCrTi)N膜层的力学性能分析 | 第53-55页 |
| 5.4.1 (AlCrTi)N膜层的硬度分析 | 第53-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 在学研究成果 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
