| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 WO_3的概述 | 第9-10页 |
| 1.3 变色机制 | 第10-11页 |
| 1.3.1 色心理论 | 第10页 |
| 1.3.2 电化学反应模型 | 第10-11页 |
| 1.3.3 Fuaghnna模型 | 第11页 |
| 1.4 Ti掺杂对WO_3薄膜结构与性质的影响 | 第11-12页 |
| 1.5 纳米结构三氧化钨薄膜的制备方法 | 第12-18页 |
| 1.5.1 化学沉积法 | 第12-14页 |
| 1.5.2 物理气相沉积法 | 第14-16页 |
| 1.5.3 掠射角磁控溅射制备纳米结构WO_3薄膜 | 第16-18页 |
| 1.6 Ti掺杂纳米结构WO_3薄膜的应用 | 第18-20页 |
| 1.6.1 三氧化钨薄膜在电致变色方面的应用 | 第18-19页 |
| 1.6.2 三氧化钨薄膜在气致变色方面的应用 | 第19页 |
| 1.6.3 三氧化钨薄膜在光致变色方面的应用 | 第19-20页 |
| 1.7 研究意义和研究内容 | 第20-23页 |
| 1.7.1 研究意义 | 第20-21页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验过程与测试方法 | 第23-31页 |
| 2.1 薄膜沉积设备简介 | 第23-24页 |
| 2.2 WO_3薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 溅射仪开机前的准备 | 第24页 |
| 2.2.2 磁控溅射法制备WO_3薄膜 | 第24-25页 |
| 2.2.3 Ti掺杂纳米结构WO_3薄膜 | 第25-27页 |
| 2.2.4 薄膜的热处理 | 第27页 |
| 2.3 薄膜结构表征与性能测试 | 第27-31页 |
| 2.3.1 扫描电镜分析 | 第27-28页 |
| 2.3.2 X-射线衍射分析 | 第28页 |
| 2.3.3 紫外-可见分光光度计分析 | 第28页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱分析 | 第28-29页 |
| 2.3.5 电致变色性能测试 | 第29-31页 |
| 第3章 磁控溅射沉积WO_3薄膜 | 第31-41页 |
| 3.1 偏压对氧化钨薄膜结构和组成的影响 | 第31-37页 |
| 3.2 掠射角度对三氧化钨薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 热处理对WO_3薄膜晶体结构的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 磁控溅射沉积Ti掺杂纳米结构WO_3薄膜 | 第41-49页 |
| 4.1 掺杂的优势 | 第41页 |
| 4.2 薄膜成分 | 第41-42页 |
| 4.3 Ti掺杂对WO_3薄膜结构和形貌的影响 | 第42-43页 |
| 4.4 Ti掺杂对纳米结构WO_3薄膜透射光谱的影响 | 第43-47页 |
| 4.5 Ti掺杂对纳米结构WO_3薄膜吸收光谱的影响 | 第47-48页 |
| 4.6 Ti掺杂对纳米结构WO_3薄膜响应时间的影响 | 第48页 |
| 4.7 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 在学期间研究成果 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
