| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 硅纳米线 | 第9-11页 |
| 1.1.1 硅纳米线介绍 | 第9页 |
| 1.1.2 硅纳米线制备方法 | 第9-11页 |
| 1.1.3 硅纳米线在气敏传感器方面的应用 | 第11页 |
| 1.2 多孔性硅纳米线 | 第11-15页 |
| 1.2.1 多孔性硅纳米线介绍 | 第11-13页 |
| 1.2.2 多孔性硅纳米线应用 | 第13-15页 |
| 1.3 本课题研究内容及意义 | 第15-16页 |
| 第2章 实验原理 | 第16-24页 |
| 2.1 多孔性硅纳米线制备 | 第16-21页 |
| 2.1.1 金属辅助刻蚀多孔性硅纳米线 | 第16-18页 |
| 2.1.2 金属辅助刻蚀法制备多孔性硅纳米线现状 | 第18-21页 |
| 2.2 气敏传感器的概述 | 第21-24页 |
| 2.2.1 气敏传感器的分类 | 第21-23页 |
| 2.2.2 气敏传感器的表征参数 | 第23-24页 |
| 第3章 实验部分 | 第24-29页 |
| 3.1 实验准备 | 第24-25页 |
| 3.2 一步刻蚀法制备硅纳米线与多孔性硅纳米线 | 第25页 |
| 3.2.1 一步金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线 | 第25页 |
| 3.2.2 一步金属辅助化学刻蚀法制备多孔性硅纳米线 | 第25页 |
| 3.3 两步刻蚀法制备多孔性硅纳米线 | 第25-26页 |
| 3.3.1 调控过氧化氢浓度制备多孔性硅纳米线 | 第25-26页 |
| 3.3.2 调控硝酸银浓度制备多孔性硅纳米线 | 第26页 |
| 3.4 多孔性硅纳米线微观结构表征 | 第26-27页 |
| 3.4.1 SEM微观形貌分析 | 第26-27页 |
| 3.4.2 EDS能谱分析 | 第27页 |
| 3.4.3 TEM微观形貌分析 | 第27页 |
| 3.5 多孔性硅纳米线气体传感器制备与性能评价 | 第27-29页 |
| 3.5.1 薄膜电极的制备 | 第27-28页 |
| 3.5.2 性能评价装置 | 第28-29页 |
| 第4章 多孔性硅纳米线微观结构表征 | 第29-38页 |
| 4.1 一步刻蚀法多孔性硅纳米线微观结构分析 | 第29-31页 |
| 4.2 一步刻蚀法制备多孔性硅纳米线形成机理 | 第31-32页 |
| 4.3 两步刻蚀法制备多孔性硅纳米线微观结构分析 | 第32-35页 |
| 4.3.1 过氧化氢浓度对纳米线形貌的影响 | 第32-33页 |
| 4.3.2 硝酸银浓度对纳米线形貌的影响 | 第33-35页 |
| 4.4 两步刻蚀法制备多孔性硅纳米线形成机理 | 第35-37页 |
| 4.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第5章 多孔性硅纳米线气敏性能研究 | 第38-48页 |
| 5.1 一步刻蚀法制备多孔性硅纳米线的气敏性能 | 第38-41页 |
| 5.2 两步刻蚀法制备多孔性硅纳米线的气敏性能 | 第41-45页 |
| 5.2.1 过氧化氢浓度对气敏性能的影响 | 第41-42页 |
| 5.2.2 硝酸银浓度对气敏性能的影响 | 第42-45页 |
| 5.3 多孔性硅纳米线的气敏机理 | 第45-47页 |
| 5.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第6章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |