半导体基大面积纳米石墨烯膜的转移制备及其光电特征

摘要	第4-5页
Abstract	第5-6页
1 绪论	第9-21页
1.1 纳米碳材料	第9-10页
1.2 纳米石墨烯	第10-17页
1.3 透明薄膜电极材料的图案化	第17-20页
1.4 论文结构及主要工作	第20-21页
2 纳米石墨烯膜的大面积转移制备	第21-38页
2.1 大面积纳米石墨烯膜转移工艺	第21-26页
2.2 半导体基纳米石墨烯膜的特性	第26-37页
2.3 小结	第37-38页
3 半导体基石墨烯模的光电特性	第38-45页
3.1 光电响应理论	第38-40页
3.2 器件制作、测试与分析	第40-44页
3.3 小结	第44-45页
4 纳米石墨烯膜的图案化	第45-76页
4.1 工艺原理	第45-47页
4.2 制备流程	第47-52页
4.3 显微光学与 SEM 检测	第52-62页
4.4 基于石墨烯模的微平面线圈电极	第62-75页
4.5 小结	第75-76页
5 总结	第76-79页
5.1 全文总结及创新点	第76-77页
5.2 工作展望	第77-79页
致谢	第79-80页
参考文献	第80-85页
附录1 硕士期间发表的论文及项目来源	第85-86页
附录2 Matlab 图形仿真石墨烯电阻分布代码	第86页