摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-19页 |
1.1 能源 | 第11-12页 |
1.2 氢能与氢经济 | 第12-13页 |
1.2.1 氢与氢能 | 第12页 |
1.2.2 氢经济 | 第12-13页 |
1.3 氢能的应用 | 第13-14页 |
1.3.1 氢气的应用 | 第13-14页 |
1.3.2 氢气的燃烧性质和自燃极限 | 第14页 |
1.4 制氢技术研究现状 | 第14-19页 |
1.4.1 电解水制氢 | 第14-15页 |
1.4.2 矿物燃料制氢 | 第15页 |
1.4.3 生物制氢 | 第15页 |
1.4.4 光解水制氢 | 第15-16页 |
1.4.5 氢化物水解制氢 | 第16-17页 |
1.4.6 轻金属水解制氢 | 第17-19页 |
第二章 文献综述及问题的提出 | 第19-29页 |
2.1 合金化 | 第19-20页 |
2.2 增大硅的比表面积 | 第20-22页 |
2.3 改变水解溶液的环境 | 第22-25页 |
2.4 掺杂添加剂 | 第25-26页 |
2.5 问题的提出和本文的研究内容 | 第26-29页 |
第三章 实验方法 | 第29-33页 |
3.1 复合物制备 | 第29-30页 |
3.1.1 实验试剂 | 第29页 |
3.1.2 复合物制备 | 第29页 |
3.1.3 多孔硅的制备 | 第29-30页 |
3.2 制氢性能研究 | 第30页 |
3.2.1 制氢装置 | 第30页 |
3.2.2 理论制氢量的计算 | 第30页 |
3.3 材料组织和微观结构分析 | 第30-33页 |
3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
3.3.2 扫描电镜(SEM) | 第31页 |
3.3.3 比表面积分析(BET) | 第31页 |
3.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第31-33页 |
第四章 硅及其复合物在水中的水解制氢性能 | 第33-43页 |
4.1 引言 | 第33页 |
4.2 硅及其球磨后的水解制氢性能 | 第33-35页 |
4.3 添加LiH对硅水解制氢性能的影响 | 第35-37页 |
4.4 添加LiBH_4对硅水解制氢性能的影响 | 第37-39页 |
4.5 添加NiCl_2对Si/LiH(LiBH_4)复合物水解制氢性能的影响 | 第39-41页 |
4.6 本章小结 | 第41-43页 |
第五章 多孔硅的水解制氢性能的研究 | 第43-49页 |
5.1 多孔硅的水解性能 | 第43-48页 |
5.2 本章小结 | 第48-49页 |
第六章 硅及其复合物在KOH溶液中水解制氢性能的研究 | 第49-63页 |
6.1 引言 | 第49页 |
6.2 硅单质在KOH溶液中的水解制氢性能 | 第49-55页 |
6.3 硅与氢化物的二元复合物在KOH溶液中的水解性能 | 第55-59页 |
6.4 硅-氢化物-盐三元复合物在KOH溶液中的水解性能 | 第59-60页 |
6.5 本章小结 | 第60-63页 |
第七章 总结与展望 | 第63-65页 |
7.1 总结 | 第63-64页 |
7.2 展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
个人简介 | 第75-77页 |
攻读学位期间发表的学术论文和专利 | 第77页 |