| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 传感器概述 | 第10-12页 |
| 1.3 气体传感器 | 第12-14页 |
| 1.4 气体传感器的特征及分类 | 第14-15页 |
| 1.5 金属氧化物半导体 | 第15-18页 |
| 1.6 氨气传感器 | 第18-21页 |
| 1.6.1 氨气传感器的研究现状 | 第18-20页 |
| 1.6.2 氨气传感器的应用 | 第20-21页 |
| 1.7 V_2O_5、La_2O_3与LaVO_4性质及应用 | 第21-25页 |
| 1.7.1 V_2O_5 | 第21-23页 |
| 1.7.2 La_2O_3 | 第23-24页 |
| 1.7.3 LaVO_4 | 第24-25页 |
| 1.8 本课题研究的内容及意义 | 第25-26页 |
| 第2章 实验部分 | 第26-31页 |
| 2.1 实验原料与器材 | 第26-27页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第26页 |
| 2.1.2 仪器及设备 | 第26-27页 |
| 2.2 实验过程 | 第27-31页 |
| 2.2.1 LaVO_4/V_2O_5传感器片的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.2 NH_3气体的制备 | 第28页 |
| 2.2.3 CO气体的制备 | 第28-29页 |
| 2.2.4 H_2气体的制备 | 第29-30页 |
| 2.2.5 气敏性检测 | 第30-31页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第31-47页 |
| 3.1 优化LaVO_4/V_2O_5的制备条件 | 第31-37页 |
| 3.1.1 原料配比 | 第31-36页 |
| 3.1.2 烧结时间 | 第36-37页 |
| 3.2 LaVO_4/V_2O_5对NH_3的响应及其影响因素 | 第37-45页 |
| 3.2.1 重复性 | 第37-39页 |
| 3.2.2 浓度 | 第39-41页 |
| 3.2.3 温度 | 第41-42页 |
| 3.2.4 响应恢复时间 | 第42-43页 |
| 3.2.5 选择性 | 第43-45页 |
| 3.3 LaVO_4/V_2O_5传感器材料的表征及机理探索 | 第45-47页 |
| 第4章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
