| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 磁存储硬盘的研究背景 | 第10-13页 |
| 1.1.1 磁存储硬盘的工作原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 磁存储硬盘的发展 | 第11-13页 |
| 1.2 磁存储硬盘的研究与发展 | 第13-16页 |
| 1.2.1 磁头/磁盘界面Reynolds方程的研究与发展 | 第13-15页 |
| 1.2.2 磁头/磁盘界面传热特性的研究与发展 | 第15页 |
| 1.2.3 磁头飞行特性的研究与发展 | 第15-16页 |
| 1.3 选题背景及意义 | 第16-17页 |
| 1.4 课题研究的主要内容 | 第17-19页 |
| 第2章 纳米间隙气膜润滑方程 | 第19-31页 |
| 2.1 Reynolds方程和气膜润滑理论 | 第19-23页 |
| 2.2 稀薄效应 | 第23-24页 |
| 2.3 加入稀薄效应的润滑模型 | 第24-29页 |
| 2.3.1 修正模型的Reynolds方程 | 第24-25页 |
| 2.3.2 FK模型的Reynolds方程 | 第25-27页 |
| 2.3.3 LFR模型的Reynolds方程 | 第27-28页 |
| 2.3.4 LFR模型和FK模型对比 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 带有缺陷磁头/磁盘界面压力分布的研究 | 第31-45页 |
| 3.1 磁头/磁盘界面的压力分布求解的数学模型 | 第31-32页 |
| 3.2 磁头/磁盘界面的压力分布的有限单元求解方法 | 第32-35页 |
| 3.3 缺陷磁头/磁盘界面压力分布的数值结果分析 | 第35-43页 |
| 3.3.1 三种模型压力分布对比 | 第35-38页 |
| 3.3.2 外界环境变量对缺陷磁头/磁盘界面压力分布的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.3 自身变量对缺陷磁头/磁盘界面压力分布的影响 | 第40-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 带有缺陷磁头/磁盘界面传热特性的研究 | 第45-59页 |
| 4.1 磁头/磁盘界面传热特性求解的数学模型 | 第45-47页 |
| 4.2 磁头/磁盘界面传热特性的有限元求解方法 | 第47-49页 |
| 4.3 缺陷磁头/磁盘界面热通量的数值结果分析 | 第49-57页 |
| 4.3.1 三种模型热通量对比 | 第49-51页 |
| 4.3.2 外界环境变量对缺陷磁头/磁盘界面热通量的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.3 自身变量对缺陷磁头/磁盘界面热通量的影响 | 第53-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 磁头/磁盘界面飞行特性的实验研究 | 第59-72页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 实验设备选用及步骤 | 第59-63页 |
| 5.2.1 实验设备选用 | 第59-61页 |
| 5.2.2 实验步骤 | 第61-63页 |
| 5.3 实验结果及分析 | 第63-70页 |
| 5.3.1 测试环境压力及磁盘转速对磁头I发生TD及TO的影响 | 第63-66页 |
| 5.3.2 测试环境压力及磁盘转速对磁头II发生TD及TO的影响 | 第66-70页 |
| 5.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 总结与展望 | 第72-75页 |
| 6.1 本文总结 | 第72-74页 |
| 6.2 研究展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第82页 |
