摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
1.2 绝缘体与拓扑绝缘体 | 第12-13页 |
1.3 拓扑绝缘体的发展 | 第13-19页 |
1.3.1 量子霍尔效应 | 第13-14页 |
1.3.2 量子自旋霍尔效应 | 第14-16页 |
1.3.3 二维拓扑绝缘体 | 第16-17页 |
1.3.4 第一代三维拓扑绝缘体 | 第17-18页 |
1.3.5 第二代三维拓扑绝缘体 | 第18-19页 |
1.4 BiYO_3的研究进展 | 第19-21页 |
1.4.1 BiYO_3的结构 | 第19页 |
1.4.2 Bi_2O_3-Y_2O_3体系相图 | 第19-20页 |
1.4.3 YBiO_3合成研究现状 | 第20-21页 |
1.5 本论文选题的目的及研究内容 | 第21-22页 |
第二章 实验与理论计算 | 第22-28页 |
2.1 方法概述 | 第22页 |
2.2 实验 | 第22-24页 |
2.2.1 实验原料与设备 | 第22-23页 |
2.2.2 样品合成 | 第23页 |
2.2.3 测试与表征 | 第23-24页 |
2.3 第一性原理计算 | 第24-25页 |
2.4 密度泛函理论 | 第25-27页 |
2.4.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第25页 |
2.4.2 Kohn-Sham方程 | 第25-26页 |
2.4.3 局域密度近似 | 第26页 |
2.4.4 广义梯度近似 | 第26-27页 |
2.5 自旋轨道耦合 | 第27-28页 |
第三章 BiYO_3的制备及Bi-Y-O相边界的确定 | 第28-37页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 温度对BiYO_3粉体制备的影响 | 第28-31页 |
3.2.1 温度系列样品物相分析 | 第28-29页 |
3.2.2 温度系列样品显微结构分析 | 第29-31页 |
3.3 反应时间对BBiYO_3粉体制备的影响 | 第31-32页 |
3.4 冷却方式BiYO_3粉体制备的影响 | 第32页 |
3.5 原料配比对BiYO_3粉体制备的影响 | 第32-34页 |
3.6 Bi-Y-O体系相边界的确定 | 第34-36页 |
3.7 本章小结 | 第36-37页 |
第四章 BiYO_3的结构与性质 | 第37-45页 |
4.1 引言 | 第37页 |
4.2 BiYO_3的结构 | 第37-42页 |
4.2.1 Rietveld精修 | 第37-39页 |
4.2.2 TEM | 第39-40页 |
4.2.3 红外光谱测试 | 第40-42页 |
4.3 BiYO_3的性质 | 第42-44页 |
4.3.1 BiYO_3的带隙 | 第42-43页 |
4.3.2 BiYO_3的磁性 | 第43-44页 |
4.5 本章小结 | 第44-45页 |
第五章 BiYO_3的理论计算 | 第45-52页 |
5.1 引言 | 第45页 |
5.2 计算详情 | 第45页 |
5.3 模型结构参数 | 第45-46页 |
5.4 计算结果与讨论 | 第46-50页 |
5.4.1 不同结构的比较 | 第46-47页 |
5.4.2 能带结构 | 第47-50页 |
5.5 本章小结 | 第50-52页 |
结论与展望 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-60页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60页 |