| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 缩写和符号清单 | 第12-13页 |
| 1 引言 | 第13-15页 |
| 2 背景综述 | 第15-42页 |
| 2.1 自旋电子学的研究进展 | 第15-20页 |
| 2.2 自旋相关输运 | 第20-21页 |
| 2.3 磁电阻效应 | 第21-24页 |
| 2.4 传统各向异性磁电阻效应 | 第24-30页 |
| 2.4.1 各向异性磁电阻效应微观机理 | 第24-26页 |
| 2.4.2 各向异性磁电阻的影响因素 | 第26-28页 |
| 2.4.3 各向异性磁电阻的研究进展 | 第28-30页 |
| 2.5 新型各向异性磁电阻效应 | 第30-34页 |
| 2.5.1 遂穿各向异性磁电阻 | 第30-31页 |
| 2.5.2 弹道各向异性磁电阻 | 第31-32页 |
| 2.5.3 库伦阻塞各向异性磁电阻 | 第32-33页 |
| 2.5.4 异常各向异性磁电阻 | 第33页 |
| 2.5.5 反铁磁遂穿各向异性磁电阻 | 第33-34页 |
| 2.6 铁磁绝缘体/非磁重金属异质结的磁电阻效应 | 第34-37页 |
| 2.6.1 自旋霍尔效应磁电阻 | 第35-36页 |
| 2.6.2 杂化磁电阻 | 第36-37页 |
| 2.7 铁磁绝缘体/非磁重金属异质结的磁电阻效应 | 第37-40页 |
| 2.7.1 普通氧化物/金属异质结 | 第37-38页 |
| 2.7.2 过渡金属氧化物/金属异质结 | 第38-40页 |
| 2.8 研究动机与内容 | 第40-42页 |
| 3 研究方法 | 第42-53页 |
| 3.1 样品制备 | 第42-47页 |
| 3.1.1 基片清洗 | 第42-43页 |
| 3.1.2 薄膜生长 | 第43-44页 |
| 3.1.3 样品加工 | 第44-47页 |
| 3.2 样品热处理 | 第47-48页 |
| 3.3 样品测试与表征 | 第48-53页 |
| 3.3.1 薄膜的输运性能测试 | 第48-49页 |
| 3.3.2 薄膜的磁性能测试 | 第49-50页 |
| 3.3.3 薄膜的微结构分析 | 第50页 |
| 3.3.4 薄膜的电子结构分析 | 第50-51页 |
| 3.3.5 薄膜的厚度分析 | 第51-53页 |
| 4 NiFe/氧化物异质结薄膜各向异性磁电阻的界面调控 | 第53-64页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验 | 第53-54页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第54-63页 |
| 4.4 小结 | 第63-64页 |
| 5 Fe/MgO异质结薄膜中垂直各向异性磁电阻及其产生机制的研究 | 第64-73页 |
| 5.1 引言 | 第64-65页 |
| 5.2 实验 | 第65-66页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第66-72页 |
| 5.4 小结 | 第72-73页 |
| 6 CoO/Co/Pt异质结薄膜中垂直各向异性磁电阻的调制及其影响机制的研究 | 第73-81页 |
| 6.1 引言 | 第73-74页 |
| 6.2 实验 | 第74-75页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第75-80页 |
| 6.4 小结 | 第80-81页 |
| 7 结论与展望 | 第81-83页 |
| 7.1 结论 | 第81-82页 |
| 7.2 展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-99页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第99-103页 |
| 学位论文数据集 | 第103页 |
