| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第9-11页 |
| 1.1.1 激光驱动飞片技术 | 第9-10页 |
| 1.1.2 反应性复合薄膜 | 第10页 |
| 1.1.3 研究意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究概况 | 第11-17页 |
| 1.2.1 CuO-Al反应性复合薄膜研究概况 | 第11-14页 |
| 1.2.2 复合飞片烧蚀层材料的研究概况 | 第14-15页 |
| 1.2.3 复合飞片隔热层研究概况 | 第15-16页 |
| 1.2.4 激光烧蚀薄膜产生等离子体研究概况 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 2 薄膜制备和表征 | 第18-28页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第18-22页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第18页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第18-19页 |
| 2.1.3 靶材与基片处理 | 第19页 |
| 2.1.4 镀膜流程 | 第19-20页 |
| 2.1.5 薄膜制备参数 | 第20-22页 |
| 2.2 复合薄膜表征 | 第22-27页 |
| 2.2.1 薄膜XRD分析 | 第22-23页 |
| 2.2.2 薄膜SEM分析 | 第23-25页 |
| 2.2.3 薄膜DTA分析 | 第25-27页 |
| 2.3 小结 | 第27-28页 |
| 3 复合飞片速度特性研究 | 第28-39页 |
| 3.1 飞片速度测量方法 | 第28-29页 |
| 3.2 光子多普勒测速 | 第29-31页 |
| 3.3 CuO-Al反应性复合薄膜对飞片速度的影响 | 第31-36页 |
| 3.3.1 激光能量对飞片速度的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.2 CuO-Al薄膜厚度比对飞片速度的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.3 CuO-Al调制周期对飞片速度的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 Al_2O_3隔热层对复合飞片速度的影响 | 第36-38页 |
| 3.5 小结 | 第38-39页 |
| 4 激光诱导CuO-Al复合薄膜发射光谱分析 | 第39-59页 |
| 4.1 等离子体特性研究理论与实验方法 | 第39-43页 |
| 4.1.1 等离子体特性实验方法 | 第39-41页 |
| 4.1.2 等离子体电子温度计算方法 | 第41-42页 |
| 4.1.3 等离子体电子密度计算方法 | 第42-43页 |
| 4.2 发射光谱定性分析 | 第43-45页 |
| 4.3 等离子体电子温度 | 第45-51页 |
| 4.3.1 等离子体电子温度测量 | 第45-46页 |
| 4.3.2 激光脉冲能量对等离子体电子温度的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.3 复合薄膜调制周期对等离子体电子温度的影响 | 第48-51页 |
| 4.4 等离子体电子密度 | 第51-57页 |
| 4.4.1 复合薄膜发射光谱展宽特点 | 第51-53页 |
| 4.4.2 不同调制周期复合薄膜等离子体电子密度 | 第53-57页 |
| 4.5 Boltzmann图谱法和局部热力学平衡验证 | 第57页 |
| 4.6 小结 | 第57-59页 |
| 5 总结 | 第59-61页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第59-60页 |
| 5.2 创新点 | 第60页 |
| 5.3 工作展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 附录 | 第69页 |
