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半导体基局域表面等离激元材料合成及其性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-14页
    1.1 课题的内容和意义第12-13页
    1.2 论文的结构第13-14页
第二章 文献综述第14-36页
    2.1 表面等离激元第14-18页
        2.1.1 表面等离激元的概念第14-15页
        2.1.2 局域表面等离激元的概念第15-16页
        2.1.3 影响局域表面等离激元性质的因素第16-18页
    2.2 半导体基局域表面等离激元材料的性质及制备第18-30页
        2.2.1 半导体基局域表面等离激元材料的性质第18-20页
        2.2.2 常见半导体基局域表面等离激元材料第20-24页
        2.2.3 半导体基局域表面等离激元材料的制备技术第24-30页
    2.3 半导体基局域表面等离激元材料的应用第30-35页
        2.3.1 表面增强拉曼散射第30-32页
        2.3.2 透明导电薄膜第32-34页
        2.3.3 光热疗法第34-35页
    2.4 本论文研究内容及意义第35-36页
第三章 实验试剂、设备和测试仪器第36-42页
    3.1 实验试剂与设备第36-38页
        3.1.1 实验试剂第36-37页
        3.1.2 实验设备第37-38页
    3.2 测试仪器与原理第38-42页
        3.2.1 透射电子显微镜(TEM)第38页
        3.2.2 扫描电子显微镜(SEM)第38-39页
        3.2.3 X射线光电子能谱(XPS)第39页
        3.2.4 X射线衍射仪(XRD)第39-40页
        3.2.5 拉曼光谱测试(Raman Spectroscopy)第40页
        3.2.6 紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR spectrometer)第40页
        3.2.7 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)第40-42页
第四章 ITO纳米晶的可控合成及表征第42-58页
    4.1 引言第42页
    4.2 实验过程第42-44页
        4.2.1 不同掺杂浓度ITO纳米晶的合成第42-43页
        4.2.2 不同尺寸ITO纳米晶的合成第43-44页
        4.2.3 不同形貌ITO纳米晶的合成第44页
        4.2.4 醇解法合成ITO纳米晶第44页
    4.3 实验结果的分析和讨论第44-57页
        4.3.1 ITO纳米晶的表征第44-51页
        4.3.2 ITO纳米晶的LSPR性能研究第51-55页
        4.3.3 醇解法合成ITO纳米晶及LSPR性能研究第55-57页
    4.4 本章小结第57-58页
第五章 ITO纳米晶的应用研究第58-74页
    5.1 引言第58-59页
    5.2 实验过程第59-60页
        5.2.1 XPS样品的制备第59页
        5.2.2 ITO透明导电薄膜的制备第59页
        5.2.3 SERS衬底样品的制备第59-60页
    5.3 实验结果的分析和讨论第60-73页
        5.3.1 ITO纳米晶电学性能研究第60-66页
        5.3.2 ITO透明导电薄膜性能的研究第66-70页
        5.3.3 ITO纳米晶SERS性能的研究第70-73页
    5.4 本章小结第73-74页
第六章 铜基化合物半导体纳米晶的研究第74-90页
    6.1 引言第74-75页
    6.2 实验过程第75-76页
        6.2.1 Cu_(2-x)S纳米晶的合成第75页
        6.2.2 Cu_(2-x)S表面改性第75页
        6.2.3 Cu_(2-x)S纳米晶的刻蚀实验第75-76页
        6.2.4 Cu_(2-x)Se纳米晶的合成第76页
    6.3 实验结果的分析和讨论第76-87页
        6.3.1 Cu_(2-x)S纳米晶的表征第76-81页
        6.3.2 Cu_(7.2)S_4纳米片SERS性能的研究第81页
        6.3.3 Cu_(2-x)S纳米晶表面改性的研究第81-82页
        6.3.4 Cu_(2-x)S纳米晶刻蚀的研究第82-84页
        6.3.5 Cu_(2-x)Se纳米晶的表征第84-87页
    6.4 本章小结第87-90页
第七章 总结第90-92页
参考文献第92-100页
致谢第100-102页
个人简历第102-104页
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第104页

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