| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 纳米材料概述 | 第11-12页 |
| 1.2.1 纳米材料结构分类 | 第11页 |
| 1.2.2 纳米材料的基本特性 | 第11-12页 |
| 1.3 气敏传感器 | 第12页 |
| 1.3.1 半导体气敏传感器原理 | 第12页 |
| 1.3.2 提高半导体气敏传感器性能的办法 | 第12页 |
| 1.4 光催化降解和吸附 | 第12-14页 |
| 1.4.1 半导体光催化降解的原理 | 第12-13页 |
| 1.4.2 半导体吸附原理 | 第13页 |
| 1.4.3 提高光催化降解效率的办法 | 第13页 |
| 1.4.4 提高吸附效率的方法 | 第13-14页 |
| 1.5 纳米MoS_2研究概况 | 第14-16页 |
| 1.5.1 MoS_2的结构 | 第14页 |
| 1.5.2 纳米MoS_2的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.5.3 纳米MoS_2的应用 | 第15-16页 |
| 1.6 纳米MoO_3研究概况 | 第16-18页 |
| 1.6.1 MoO_3的结构 | 第16-17页 |
| 1.6.2 纳米MoO_3的制备方法 | 第17-18页 |
| 1.6.3 纳米MoO_3的应用 | 第18页 |
| 1.7 纳米Co_3O_4研究概况 | 第18-20页 |
| 1.7.1 Co_3O_4的结构 | 第18-19页 |
| 1.7.2 纳米Co_3O_4的制备方法 | 第19-20页 |
| 1.7.3 纳米Co_3O_4的应用 | 第20页 |
| 1.8 选题意义和主要研究内容 | 第20-22页 |
| 1.8.1 选题意义 | 第20-21页 |
| 1.8.2 主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 样品表征及性能测试 | 第22-31页 |
| 2.1 主要实验设备 | 第22页 |
| 2.2 表征手段 | 第22-25页 |
| 2.2.1 X射线衍射 (XRD) | 第23页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 (SEM) | 第23页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 (TEM) | 第23页 |
| 2.2.4 热重-差热分析 (TG-DTA) | 第23-24页 |
| 2.2.5 比表面积-孔径测试 | 第24页 |
| 2.2.6 紫外可见漫反射光谱分析 (UV-Vis) | 第24页 |
| 2.2.7 紫外可见分光光度法分析 (UV-Vis) | 第24-25页 |
| 2.2.8 光致发光PL测试 | 第25页 |
| 2.3 气敏元件制备及性能测试 | 第25-27页 |
| 2.3.1 气敏元件特性参数 | 第25-26页 |
| 2.3.2 气敏元件的制备 | 第26-27页 |
| 2.3.3 气敏元件的测试 | 第27页 |
| 2.4 光催化降解实验 | 第27-29页 |
| 2.4.1 光催化性能评估方法 | 第27-28页 |
| 2.4.2 光催化性能测试 | 第28-29页 |
| 2.5 吸附实验 | 第29-31页 |
| 2.5.1 吸附性能评估方法 | 第29-30页 |
| 2.5.2 吸附测试 | 第30-31页 |
| 第三章 MoS_2纳米片的制备、表征及性能 | 第31-53页 |
| 3.1 主要药品 | 第31-32页 |
| 3.2 MoS_2纳米片的制备 | 第32页 |
| 3.3 MoS_2纳米片的表征 | 第32-44页 |
| 3.3.1 形貌及物相 | 第32-33页 |
| 3.3.2 反应时间对MoS_2纳米片的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.3 反应温度对MoS_2纳米片的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.4 表面活性剂对MoS_2纳米片的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.5 反应物比例对MoS_2纳米片的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.6 比表面积-孔径测试 | 第42页 |
| 3.3.7 固体漫反射 | 第42-43页 |
| 3.3.8 光致发光PL测试 | 第43页 |
| 3.3.9 生长机理 | 第43-44页 |
| 3.4 气敏性能研究 | 第44-48页 |
| 3.4.1 最佳工作温度 | 第44-45页 |
| 3.4.2 选择性 | 第45页 |
| 3.4.3 响应-恢复时间 | 第45-46页 |
| 3.4.4 浓度-灵敏度关系 | 第46-47页 |
| 3.4.5 稳定性 | 第47-48页 |
| 3.5 光催化及吸附性能分析 | 第48-51页 |
| 3.5.1 对刚果红染料的光催化及吸附性能 | 第48-49页 |
| 3.5.2 对亚甲基蓝染料的光催化及吸附性能 | 第49-50页 |
| 3.5.3 对罗丹明B染料的光催化及吸附性能 | 第50页 |
| 3.5.4 对甲基橙染料的光催化及吸附性能 | 第50-51页 |
| 3.6 机理分析 | 第51-52页 |
| 3.6.1 气敏机理 | 第51页 |
| 3.6.2 吸附动力学模型 | 第51-52页 |
| 3.7 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 MoO_3纳米片制备、表征及性能 | 第53-64页 |
| 4.1 MoO_3纳米片的制备 | 第53-54页 |
| 4.2 MoO_3纳米片的表征 | 第54-57页 |
| 4.2.1 形貌及物相 | 第54-55页 |
| 4.2.2 比表面-孔径测试 | 第55页 |
| 4.2.3 固体紫外 | 第55-56页 |
| 4.2.4 光致发光PL测试 | 第56-57页 |
| 4.2.5 生长机理分析 | 第57页 |
| 4.3 气敏性能研究 | 第57-61页 |
| 4.3.1 最佳工作温度 | 第57-58页 |
| 4.3.2 选择性 | 第58页 |
| 4.3.3 对二甲胺的气敏性测试 | 第58-59页 |
| 4.3.4 对四甲基乙二胺的气敏性测试 | 第59-60页 |
| 4.3.5 MoO_3纳米片的气敏机理 | 第60-61页 |
| 4.4 光催化及吸附性能分析 | 第61-63页 |
| 4.4.1 对亚甲基蓝染料的光催化吸附吸能 | 第61-62页 |
| 4.4.2 对罗丹明B染料的吸附性能 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 Co_3O_4纳米片的制备、表征及性能 | 第64-79页 |
| 5.1 Co_3O_4纳米片的制备 | 第64页 |
| 5.2 形貌及物相 | 第64-65页 |
| 5.3 放置时间，热处理温度对Co_3O_4纳米片的影响 | 第65-69页 |
| 5.3.1 放置0天，不同热处理温度对Co_3O_4影响 | 第65-67页 |
| 5.3.2 放置1天，不同热处理温度对Co_3O_4影响 | 第67-68页 |
| 5.3.3 放置2天，不同热处理温度对Co_3O_4影响 | 第68-69页 |
| 5.4 比表面-孔径测试 | 第69-70页 |
| 5.5 固体紫外 | 第70-71页 |
| 5.6 光致发光PL测试 | 第71页 |
| 5.7 生长机理分析 | 第71-72页 |
| 5.8 气敏性能 | 第72-76页 |
| 5.8.1 Co_3O_4纳米片气敏性能 | 第72-74页 |
| 5.8.2 Co_3O_4纳米片气敏性能对比 | 第74-76页 |
| 5.9 对刚果红染料的吸附测试 | 第76-77页 |
| 5.10 机理分析 | 第77-78页 |
| 5.10.1 气敏机理分析 | 第77页 |
| 5.10.2 吸附机理分析 | 第77-78页 |
| 5.11 本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 全文总结 | 第79-81页 |
| 6.1 总结 | 第79-80页 |
| 6.2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-88页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
