| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第11-15页 |
| ·相关领域的研究现状 | 第15-27页 |
| ·论文章节内容安排 | 第27-29页 |
| 第2章 薄膜光学理论及膜系设计 | 第29-45页 |
| ·周期性多层膜理论 | 第29-34页 |
| ·薄膜驻波电场理论 | 第34-38页 |
| ·膜系的优化设计 | 第38-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第3章 薄膜沉积工艺优化及表征 | 第45-73页 |
| ·热蒸发沉积技术 | 第45-51页 |
| ·薄膜材料选择及表征手段 | 第51-55页 |
| ·热蒸发紫外 LaF_3薄膜实验研究 | 第55-63页 |
| ·热蒸发紫外 MgF_2薄膜实验研究 | 第63-67页 |
| ·热蒸发紫外 GdF_3薄膜实验研究 | 第67-69页 |
| ·热蒸发紫外 AlF_3薄膜实验研究 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第4章 薄膜光学常数反演及高反射薄膜的制备与误差分析 | 第73-89页 |
| ·介质薄膜光学常数解析方法 | 第73-76页 |
| ·深紫外波段薄膜光学常数反演 | 第76-84页 |
| ·193nm 高反射薄膜制备与误差分析 | 第84-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第5章 ArF 准分子激光对氟化物高反射薄膜的诱导损伤 | 第89-105页 |
| ·ArF 准分子激光损伤测试系统 | 第89-91页 |
| ·ArF 准分子激光对高反射薄膜损伤机理分析 | 第91-94页 |
| ·改善薄膜损伤阈值方法 | 第94-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 第6章 总结与展望 | 第105-107页 |
| ·研究内容 | 第105-106页 |
| ·创新点 | 第106页 |
| ·研究工作展望 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-119页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第119-121页 |
| 指导教师及作者简介 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123页 |