紫外LED光刻光源系统的研究与设计
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 前言 | 第8-18页 |
| ·论文研究背景及意义 | 第8-11页 |
| ·光刻技术介绍 | 第11-13页 |
| ·近紫外光刻技术 | 第11-12页 |
| ·极紫外光刻技术 | 第12页 |
| ·无掩模数字光刻技术 | 第12-13页 |
| ·紫外光刻光源系统介绍 | 第13-15页 |
| ·UV-LED 光源及应用国内外发展现状 | 第15-17页 |
| ·UV-LED 的发展历程 | 第15-16页 |
| ·UV-LED 在光刻领域的应用前景 | 第16-17页 |
| ·本文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 常用光刻光源照明系统 | 第18-32页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·各常用光刻光源照明系统 | 第18-22页 |
| ·高压汞灯光刻光源系统 | 第18-20页 |
| ·紫外激光器光刻光源系统 | 第20-21页 |
| ·UV-LED 光刻光源系统 | 第21-22页 |
| ·UV-LED 光源工作原理及特性 | 第22-31页 |
| ·UV-LED 工作原理 | 第22-25页 |
| ·UV-LED 光源特性 | 第25-30页 |
| ·UV-LED 光源模拟 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 UV-LED 光刻光源系统设计方案 | 第32-44页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·非成像光学理论 | 第32-36页 |
| ·能量收集率 | 第32-34页 |
| ·光学扩展量 | 第34-36页 |
| ·边缘光线理论 | 第36页 |
| ·光刻照明方式 | 第36-40页 |
| ·四极照明 | 第37-38页 |
| ·环形照明 | 第38-39页 |
| ·二元光栅照明 | 第39-40页 |
| ·光源系统总体方案 | 第40-42页 |
| ·UV-LED 光源系统设计参数 | 第42-43页 |
| ·光源系统设计目标参数 | 第42页 |
| ·系统各单元设计参数 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 CPC 聚光准直单元设计 | 第44-51页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·非成像聚光器 CPC | 第44-48页 |
| ·CPC 聚光器的形成原理 | 第44-46页 |
| ·CPC 参数理论推导及计算 | 第46-47页 |
| ·CPC 聚光器的应用 | 第47-48页 |
| ·光束准直光路 | 第48-50页 |
| ·透镜对光束的准直 | 第48-49页 |
| ·抛物面反射镜对光束准直 | 第49页 |
| ·CPC 对光束准直 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 匀光单元设计及系统模拟分析 | 第51-67页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·光学系统均匀照明方法 | 第52-54页 |
| ·复眼透镜阵列匀光单元设计 | 第54-62页 |
| ·复眼透镜阵列匀光原理 | 第54-55页 |
| ·双排复眼透镜阵列匀光单元设计 | 第55-59页 |
| ·复眼透镜阵列匀光影响因素分析 | 第59-62页 |
| ·基于 ZEMAX 光学软件光学系统模拟 | 第62-66页 |
| ·ZEMAX 的非序列追迹介绍 | 第62-63页 |
| ·模拟结果及仿真分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 总结与展望 | 第67-70页 |
| ·本文研究工作总结 | 第67-68页 |
| ·课题研究展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第75-76页 |
