晶体硅缺陷微磁检测及成像技术研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-12页 |
·课题研究背景和意义 | 第8-9页 |
·国内外研究现状 | 第9-11页 |
·本文研究的主要内容 | 第11-12页 |
第2章 微磁检测基本原理 | 第12-19页 |
·微磁检测磁源的基本特性 | 第12-13页 |
·微磁检测磁源的空间特性 | 第12页 |
·微磁检测磁源的时间特性 | 第12页 |
·微磁检测磁源时间变化和空间变化的关系 | 第12-13页 |
·材料的磁特性 | 第13-15页 |
·材料磁化机理 | 第13-14页 |
·抗磁性、顺磁性和铁磁性 | 第14-15页 |
·恒定磁场的边界条件 | 第15-16页 |
·微磁检测原理 | 第16-18页 |
·本章小结 | 第18-19页 |
第3章 晶体硅微磁检测可行性分析和实验验证 | 第19-34页 |
·晶体硅微磁检测可行性分析 | 第19-21页 |
·晶体硅磁特性分析 | 第19-21页 |
·晶体硅微磁检测使用的仪器 | 第21页 |
·晶体硅微磁检测可行性实验验证 | 第21-32页 |
·实验条件 | 第21-22页 |
·多晶硅薄片的检测 | 第22-29页 |
·杂质成分的能谱分析 | 第29-30页 |
·太阳能级多晶硅铸锭的检测 | 第30-32页 |
·本章小结 | 第32-34页 |
第4章 晶体硅自动微磁检测系统的研制 | 第34-46页 |
·系统硬件设计 | 第34-40页 |
·传动系统的选择和设计 | 第34-39页 |
·系统硬件整体装配 | 第39-40页 |
·系统软件设计 | 第40-45页 |
·主程序流程图 | 第41-42页 |
·步进电机的控制 | 第42-43页 |
·磁场数据采集控制与数据解码 | 第43-44页 |
·上位机软件界面设计 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第5章 晶体硅微磁检测缺陷成像 | 第46-59页 |
·检测数据平滑处理 | 第46-53页 |
·微磁信号特点及信号处理 | 第46页 |
·最小二乘平滑法 | 第46-53页 |
·缺陷二维成像 | 第53-56页 |
·计算视磁化率 | 第53-54页 |
·数据插值和网格化 | 第54-55页 |
·缺陷二维成像 | 第55-56页 |
·缺陷三维成像 | 第56-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第六章 总结与展望 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |