| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 1 引言 | 第10-13页 |
| ·磁制冷材料的研究背景 | 第10-11页 |
| ·磁制冷材料的应用前景 | 第11-12页 |
| ·本文的研究目的 | 第12-13页 |
| 2 薄膜制备方法及金属表面防护镀层的研究 | 第13-28页 |
| ·薄膜制备的物理方法(PVD) | 第13-22页 |
| ·薄膜制备方法的选取 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射方法在金属防腐上的应用 | 第23-24页 |
| ·影响溅射镀层质量的因素 | 第24-26页 |
| ·靶材的选择 | 第26页 |
| ·小结 | 第26-28页 |
| 3 实验的目的与方法 | 第28-43页 |
| ·实验目的 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射技术的原理、特点及应用 | 第30-35页 |
| ·磁控溅射镀膜设备简介 | 第35-36页 |
| ·研究方案 | 第36-38页 |
| ·实验及分析检测 | 第38-43页 |
| 4 Gd基底上不锈钢(1Cr18Ni9Ti)镀层的附着性能研究 | 第43-56页 |
| ·薄膜生长形貌分析 | 第43-47页 |
| ·薄膜沉积速率及其影响因素分析 | 第47-49页 |
| ·薄膜的表观质量及薄膜的成分分析 | 第49-52页 |
| ·薄膜界面观察及元素分布 | 第52-53页 |
| ·膜层的附着性能研究 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 5 金属Gd表面Ti、Cu、Al以及Cu-Al和Al-Cu复合膜镀层附着性能研究 | 第56-81页 |
| ·薄膜沉积速率的影响因素分析 | 第56-61页 |
| ·薄膜表观质量及其影响因素分析 | 第61-65页 |
| ·表面镀层成分分析 | 第65-67页 |
| ·膜基界面微观形貌(SEM)及界面成分分布的分析 | 第67-70页 |
| ·薄膜镀层附着性能的研究 | 第70-77页 |
| ·四种靶材料附着性能的综合比较 | 第77-79页 |
| ·小结 | 第79-81页 |
| 6 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-88页 |
| 在读期间科研成果简介 | 第88-89页 |
| 申明 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |