| 致谢 | 第1-3页 |
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-22页 |
| §1.1 引言 | 第7页 |
| §1.2 光刻技术的发展和前景 | 第7-11页 |
| §1.2.1 光学光刻 | 第8-9页 |
| §1.2.2 极紫外光刻 | 第9-10页 |
| §1.2.3 X射线光刻 | 第10页 |
| §1.2.4 电子束光刻 | 第10-11页 |
| §1.2.5 离子束光刻 | 第11页 |
| §1.3 投影光刻机全球市场的三大巨头 | 第11-12页 |
| §1.4 光刻物镜的分辨率研究 | 第12-19页 |
| §1.4.1 光刻物镜的暴光波长 | 第12-14页 |
| 一、超高压汞灯 | 第12-13页 |
| 二、准分子激光光源 | 第13-14页 |
| 三、未来的光源 | 第14页 |
| §1.4.2 光刻物镜的数值孔径 | 第14页 |
| §1.4.3 光刻物镜焦深 | 第14-15页 |
| §1.4.4 光刻物镜的工艺因子k1 | 第15-19页 |
| 一、离轴照明 | 第15-17页 |
| 二、相移掩模 | 第17-18页 |
| 三、光瞳滤波 | 第18-19页 |
| §1.5 结语 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章、大视场投影光刻物镜的光学设计 | 第22-28页 |
| §2.1 概述 | 第22页 |
| §2.2 物镜的光学设计 | 第22-27页 |
| §2.2.1 设计难点 | 第22-23页 |
| §2.2.2 设计思路 | 第23-25页 |
| §2.2.3 设计结果 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章、大视场投影光刻物镜的装校 | 第28-34页 |
| §3.1 光刻物镜装校和传统光学装校的区别 | 第28页 |
| §3.2 光学镜头装校的理论分析 | 第28-31页 |
| §3.3 大视场投影光刻物镜的实际装校 | 第31-33页 |
| §3.3.1 无变形装校定位 | 第31页 |
| §3.3.2 高精度定心 | 第31-32页 |
| §3.3.3 在中心仪上的精度控制 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第四章、大视场投影光刻物镜的畸变测量 | 第34-51页 |
| §4.1 畸变的概念 | 第34页 |
| §4.2 传统的畸变测量方法 | 第34-36页 |
| §4.3 大视场投影光刻物镜所采用的畸变测量方法 | 第36-41页 |
| 一、大视场投影光刻物镜畸变测量实验所要测量的参数 | 第36-37页 |
| 二、大视场投影光刻物镜畸变测量仪器 | 第37-38页 |
| 三、大视场投影光刻物镜畸变测量实验所测物体点的选取 | 第38-39页 |
| 四、物像位置之间的角度校正 | 第39-40页 |
| 五、物像位置之间的位移校正 | 第40-41页 |
| 六、畸变结果的得出 | 第41页 |
| §4.4 完成的畸变测试软件 | 第41-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第五章、结果与讨论 | 第51-54页 |
| §5.1 实验结论 | 第51-52页 |
| §5.2 讨论与展望 | 第52-54页 |
| 附录1：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54页 |