| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTACT | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·绿色镀膜玻璃概述 | 第7-9页 |
| ·绿色镀膜玻璃种类 | 第9-12页 |
| ·太阳能热反射镀膜玻璃 | 第9页 |
| ·低辐射镀膜玻璃 | 第9-10页 |
| ·AR和ARAS(UWIR)镀膜玻璃 | 第10-11页 |
| ·电致变色玻璃 | 第11页 |
| ·防紫外线镀膜玻璃 | 第11-12页 |
| ·CeO_2-TiO_2薄膜的研究现状 | 第12-14页 |
| ·薄膜制备技术 | 第14-20页 |
| ·溶胶-凝胶镀膜法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积镀膜法 | 第14-15页 |
| ·热喷涂镀膜法 | 第15-16页 |
| ·真空蒸镀法 | 第16页 |
| ·离子镀膜法 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第17-20页 |
| ·射频溅射及其特点 | 第18-19页 |
| ·射频磁控溅射镀膜设备 | 第19-20页 |
| ·论文选题的目的和意义 | 第20-21页 |
| 第二章 射频磁控溅射法制备CeO_2-TiO_2薄膜 | 第21-26页 |
| ·靶材设计与制备 | 第21-22页 |
| ·靶材设计 | 第21-22页 |
| ·靶材制备 | 第22页 |
| ·玻璃基片清洗 | 第22页 |
| ·薄膜制备的基本参数 | 第22-23页 |
| ·薄膜分析测试方法 | 第23-26页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第23页 |
| ·透射电镜(SEM)分析 | 第23页 |
| ·X-Ray衍射分析 | 第23-24页 |
| ·X-Ray光电子能谱(XPS)分析 | 第24-25页 |
| ·拉曼(Raman)光谱分析 | 第25页 |
| ·薄膜折射率及厚度分析 | 第25页 |
| ·紫外-可见(UV-vis)光谱分析 | 第25-26页 |
| 第三章 CeO_2-TiO_2薄膜制备及形貌、组成、结构分析 | 第26-44页 |
| ·不同条件下CeO_2-TiO_2薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·不同溅射功率条件下薄膜的制备 | 第26页 |
| ·不同氧气压下薄膜的制备 | 第26页 |
| ·不同基片温度下薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·不同CeO_2.TiO_2含量靶材薄膜制备 | 第27页 |
| ·薄膜形貌、组成、结构分析 | 第27-42页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析结果 | 第28-30页 |
| ·透射电镜(TEM)分析结果 | 第30-33页 |
| ·X-Ray衍射(XRD)分析结果 | 第33-36页 |
| ·X-Ray光电子能谱(XPS)分析结果 | 第36-40页 |
| ·拉曼(Raman)光谱分析结果 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 薄膜光学性能分析 | 第44-57页 |
| ·紫外-可见(UV-vis)透射谱分析 | 第44-50页 |
| ·不同溅射功率制备薄膜的紫外-可见(UV-vis)透射谱分析 | 第44页 |
| ·不同氧气压下制备薄膜的紫外-可见(UV-vis)透射谱分析 | 第44-45页 |
| ·不同基片温度下制备薄膜的紫外-可见(UV-vis)透射谱分析 | 第45-48页 |
| ·不同Ce/Ti含量靶材制备薄膜的紫外-可见(UV-vis)透射谱分析 | 第48-50页 |
| ·热处理对薄膜紫外-可见(UV-vis)透射谱影响 | 第50页 |
| ·制备条件对薄膜折射率的影响 | 第50-52页 |
| ·不同条件下制备薄膜的光学带隙 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
