| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 FeS_2薄膜的研究现状及进展 | 第13-31页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·FeS_2薄膜的研究现状 | 第14-20页 |
| ·FeS_2薄膜的制备方法 | 第15页 |
| ·FeS_2薄膜的光电性能 | 第15-18页 |
| ·制备方法对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第15-16页 |
| ·硫化工艺对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第16-17页 |
| ·掺杂对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第17-18页 |
| ·FeS_2薄膜的光电转换效率 | 第18-20页 |
| ·薄膜生长中的织构诱导和控制 | 第20-25页 |
| ·薄膜基底的选择 | 第21页 |
| ·薄膜制备工艺的影响 | 第21-23页 |
| ·偏压 | 第22页 |
| ·微量元素 | 第22页 |
| ·生长条件 | 第22-23页 |
| ·预覆膜的作用 | 第23-24页 |
| ·厚度对薄膜织构的影响 | 第24-25页 |
| ·厚度对薄膜结构及性能的影响 | 第25-29页 |
| ·厚度对薄膜晶体结构的影响 | 第25-26页 |
| ·厚度对薄膜光学性能的影响 | 第26-28页 |
| ·厚度对薄膜电学性能的影响 | 第28-29页 |
| ·FeS_2薄膜的研究中存在的问题和展望 | 第29-31页 |
| 第二章 薄膜制备及性能研究方法 | 第31-37页 |
| ·FeS_2薄膜的制备 | 第31-33页 |
| ·不同厚度FeS_2薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·不同基底FeS_2薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·FeS_2薄膜电池的制备 | 第33-35页 |
| ·ITO基片的清洗 | 第33页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·ITO膜上Al保护膜的制备 | 第34-35页 |
| ·FeS_2薄膜的性能测试 | 第35-37页 |
| 第三章 厚度对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第37-47页 |
| ·薄膜晶体结构研究 | 第37-40页 |
| ·薄膜化学成分分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜显微组织分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜晶粒尺寸分析 | 第42-44页 |
| ·薄膜晶格常数分析 | 第44-46页 |
| 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 厚度对FeS_2薄膜光学及电学性能的影响 | 第47-55页 |
| ·FeS_2薄膜光吸收研究 | 第47-49页 |
| ·FeS_2薄膜光吸收系数与禁带宽度研究 | 第49-50页 |
| ·FeS_2薄膜电学性能研究 | 第50-53页 |
| ·FeS_2薄膜导电类型的研究 | 第53-54页 |
| 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 厚度对FeS_2薄膜电池光电转换效率的影响 | 第55-62页 |
| ·光电转换基本原理 | 第55-56页 |
| ·开路电压V_(OC)与薄膜厚度的关系 | 第56-57页 |
| ·短路电流I_(SC)与薄膜厚度的关系 | 第57-58页 |
| ·光电转换效率与薄膜厚度的关系 | 第58-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 基底对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第62-70页 |
| ·不同基底上FeS_2薄膜XRD分析 | 第62-63页 |
| ·单晶Si基底的影响 | 第63-66页 |
| ·Al基底的影响 | 第66-67页 |
| ·TiO_2基底的影响 | 第67-68页 |
| ·玻璃基底的影响 | 第68-69页 |
| 本章小结 | 第69-70页 |
| 第七章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |