| 第一章 概述 | 第1-10页 |
| ·研究背景及课题意义 | 第7-8页 |
| ·研究现状及本文工作 | 第8-10页 |
| 第二章 6σ管理的主要理论及其试验设计工具 | 第10-26页 |
| ·6σ管理理论 | 第10-16页 |
| ·6σ管理的理论渊源 | 第10-11页 |
| ·6σ管理的涵义 | 第11-13页 |
| ·6σ管理的实施方法及技术工具 | 第13-16页 |
| ·正交设计法-6σ管理中试验设计的主要方法之一 | 第16-26页 |
| ·正交表 | 第18-19页 |
| ·正交试验法的程序 | 第19-20页 |
| ·正交试验应用示例 | 第20-26页 |
| 第三章 均匀设计法--6σ管理又一潜在尖兵利器 | 第26-34页 |
| ·什么是均匀设计 | 第27-30页 |
| ·均匀设计表的使用 | 第30-32页 |
| ·回归分析在均匀设计中的应用 | 第32-34页 |
| 第四章 均匀设计法应用实证--均匀设计法在原子荧光法测汞中的应用 | 第34-43页 |
| ·选定课题、确定目标(Define) | 第34页 |
| ·现状度量(Measure) | 第34-36页 |
| ·冷原子荧光法基本原理 | 第34-36页 |
| ·试验仪器及试剂 | 第36页 |
| ·试验方法 | 第36页 |
| ·质量特性参数的度量 | 第36页 |
| ·分析(Analyse) | 第36-38页 |
| ·改进(Improve) | 第38-41页 |
| ·试验安排 | 第38-39页 |
| ·试验分析 | 第39-41页 |
| ·检验(Control) | 第41-42页 |
| ·成果分析 | 第42-43页 |
| 第五章 结语与讨论 | 第43-47页 |
| 参 考 文 献 | 第47-49页 |
| 后 记 | 第49页 |