反应溅射镀膜机的PEM自动控制系统

中文摘要	第1-7页
ABSTRACT	第7-11页
第1章 绪论	第11-20页
·问题的提出	第11-13页
·真空镀膜设备	第13-17页
·反应镀膜PEM控制的国内外研究现状	第17-18页
·本课题研究的目的意义及内容	第18-20页
·目的意义	第18-19页
·研究内容	第19-20页
第2章 PEM控制原理	第20-43页
·等离子体介绍	第20-25页
·等离子体生成方法	第21页
·等离子体诊断方法	第21-25页
·等离子体的发射光谱	第25-32页
·等离子体光谱学的发展	第25-26页
·光谱发生介绍	第26-31页
·光谱分析	第31-32页
·光电探测技术	第32-43页
·光电倍增管	第33-37页
·电荷耦合器件(CCD)	第37-43页
第3章 PEM系统的设计及设备的选择	第43-58页
·系统的设计及介绍	第43-44页
·PEM系统的发射光谱(OES)诊断部分	第44-45页
·主要设备的选择	第45-58页
·光谱仪的选择	第46-52页
·光纤探头和传导光纤	第52-56页
·PEM控制设备	第56-58页
第4章 PEM控制器及控制算法的模拟仿真	第58-68页
·PEM控制器功能	第58-60页
·仿真软件的选择	第60页
·PEM控制器控制算法的仿真	第60-68页
·单神经元PID控制器的结构	第60-61页
·单神经元PID控制器的控制算法	第61-62页
·单神经元控制算法仿真	第62-67页
·仿真结果分析	第67-68页
第5章 结论与展望	第68-70页
·结论	第68页
·展望	第68-70页
参考文献	第70-75页
致谢	第75页