矩形磁控溅射靶磁场仿真与优化设计
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第10页 |
| ·课题研究的背景与现状 | 第10-18页 |
| ·课题的研究内容 | 第18-19页 |
| ·论文研究思路及难点 | 第19-20页 |
| 第2章 矩形磁控溅射靶磁场分析理论 | 第20-30页 |
| ·电子在磁控溅射电磁场中的三维运动 | 第20-23页 |
| ·带电粒子在非均匀电磁场中的运动 | 第20-22页 |
| ·刻蚀跑道断面形状的解释及临界磁场 | 第22-23页 |
| ·磁场在磁控溅射过程中的作用 | 第23-24页 |
| ·传统磁控溅射靶存在的问题 | 第24-30页 |
| ·膜层沉积速率低 | 第24页 |
| ·膜层沉积不均匀 | 第24-25页 |
| ·靶材刻蚀不均匀 | 第25-30页 |
| 第3章 矩形平面靶磁场分析 | 第30-62页 |
| ·利用电磁场分析软件ANSOFT求解磁场 | 第30-32页 |
| ·有限元法基本原理和分析步骤 | 第30页 |
| ·Ansoft软件 | 第30-32页 |
| ·磁控靶物理模型的建立 | 第32-35页 |
| ·靶的结构 | 第32-33页 |
| ·模型设计的具体步骤 | 第33-35页 |
| ·靶面磁场的模拟计算与分析 | 第35-62页 |
| ·磁场的设计原则 | 第35-37页 |
| ·磁体的结构设计 | 第37-38页 |
| ·直跑道磁场计算 | 第38-44页 |
| ·端部磁场计算 | 第44-51页 |
| ·磁体安装接缝及磁性能差异对磁场的影响 | 第51-62页 |
| 第4章 实验设计与验证 | 第62-74页 |
| ·实验目的 | 第62页 |
| ·实验设备 | 第62-65页 |
| ·测量与实验方案 | 第65-67页 |
| ·测试方案 | 第65-66页 |
| ·实验结果 | 第66-67页 |
| ·间接实验验证 | 第67-74页 |
| ·Ansoft软件模拟准确性验证 | 第67页 |
| ·模拟方法验证 | 第67-69页 |
| ·磁钢削角结构验证 | 第69页 |
| ·端部磁场设计验证 | 第69-74页 |
| 第5章结论与展望 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第74-75页 |
| ·展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
