小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性的研究

中文摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-10页
第1章 绪论	第10-20页
·课题研究的目的和意义	第10页
·课题研究现状	第10-19页
·圆形平面靶设计的研究现状	第10-16页
·膜厚均匀性研究现状	第16-19页
·课题的研究内容	第19-20页
第2章 圆形平面靶磁控溅射	第20-26页
·溅射成膜的特性	第20-23页
·溅射过程	第20页
·薄膜生长模式及形成过程	第20-22页
·溅射机理	第22-23页
·圆形平面磁控溅射	第23-26页
·圆形平面靶基本结构	第23-24页
·溅射靶的刻蚀	第24-26页
第3章 小圆平面靶磁控溅射基片运动装置	第26-30页
·圆平面靶磁控溅射装置的结构	第26-27页
·圆平面靶磁控溅射基片装置的工作原理	第27-28页
·结构参数	第28-30页
第4章 薄膜厚度分布模拟	第30-72页
·膜厚分布模型	第30-33页
·膜厚分布的物理模型	第30-31页
·膜厚分布的数学模型	第31-33页
·膜厚均匀性计算与分析	第33-70页
·基片原位自转时的膜厚均匀性	第33-53页
·基片公转加自转时的膜厚均匀性	第53-70页
·小结	第70-72页
第5章 结论与展望	第72-74页
·结论	第72-73页
·展望	第73-74页
参考文献	第74-78页
致谢	第78-79页
攻读学位期间发表的论文	第79页