| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·ZnO 材料的结构和性质 | 第11-14页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂 | 第14-15页 |
| ·ZnO 的本征缺陷 | 第14页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·透明导电器件 | 第15页 |
| ·紫外光探测器 | 第15页 |
| ·压敏器件 | 第15-16页 |
| ·气敏和湿敏器件 | 第16页 |
| ·本文选题背景和主要研究内容 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备和表征方法 | 第20-32页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第20-26页 |
| ·磁控溅射法 | 第20-25页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第25-26页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第26页 |
| ·ZnO 薄膜的表征方法 | 第26-31页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第27-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第29-30页 |
| ·紫外分光光度计 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 射频磁控溅射制备Al 掺杂ZnO 薄膜的特性 | 第32-38页 |
| ·射频磁控溅射Al 掺杂ZnO 薄膜的实验制备 | 第32页 |
| ·射频磁控溅射Al 掺杂ZnO 薄膜结构及表面形貌的表征 | 第32-34页 |
| ·射频磁控溅射Al 掺杂ZnO 薄膜的光学性质 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 直流反应磁控溅射制备Al 掺杂ZnO 薄膜的特性 | 第38-44页 |
| ·直流反应磁控溅射 Al 掺杂 ZnO 薄膜的实验制备 | 第38页 |
| ·直流反应磁控溅射 Al 掺杂 ZnO 薄膜结构及表面形貌 | 第38-40页 |
| ·直流反应磁控溅射 Al 掺杂 ZnO 薄膜的光学性质 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第五章 总结 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 附录:攻读硕士学位期间发表的论文 | 第46页 |
