| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·课题背景及研究意义 | 第9-11页 |
| ·凸面光栅在国内外的研究状况 | 第11页 |
| ·离子束刻蚀应用及国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·本课题的研究工作 | 第12-14页 |
| 第二章 凸面光栅槽形的理论设计 | 第14-33页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·光栅槽形定义 | 第14页 |
| ·衍射效率的计算 | 第14-15页 |
| ·严格耦合波理论分析 | 第15-20页 |
| ·TE模 | 第15-19页 |
| ·TM模 | 第19页 |
| ·圆锥形衍射 | 第19-20页 |
| ·光栅的衍射特性分析 | 第20-31页 |
| ·矩形槽光栅的衍射效率 | 第21-24页 |
| ·凸面矩形槽光栅的衍射效率 | 第24-27页 |
| ·闪耀形光栅的衍射效率 | 第27-29页 |
| ·凸面闪耀光栅的衍射效率 | 第29-31页 |
| ·结论 | 第31-33页 |
| 第三章 离子束刻蚀技术及光学材料刻蚀特性研究 | 第33-47页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·离子束刻蚀技术简介 | 第33-38页 |
| ·离子束刻蚀技术分类 | 第33-34页 |
| ·离子源系统 | 第34-35页 |
| ·离子束刻蚀的主要工艺参数 | 第35-38页 |
| ·Ar~+离子束刻蚀中K9 玻璃和光刻胶的特性研究 | 第38-42页 |
| ·CHF_3 反应离子刻蚀中K9 玻璃和光刻胶的特性研究 | 第42-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第四章 闪耀光栅的制作工艺 | 第47-64页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·全息离子束刻蚀工艺介绍 | 第47-49页 |
| ·全息光刻胶光栅掩模制作 | 第49-51页 |
| ·全息光栅掩模对闪耀角的影响 | 第51-53页 |
| ·实验与讨论 | 第53-60页 |
| ·离子束刻蚀制作平面闪耀光栅 | 第53-57页 |
| ·离子束刻蚀制作凸面闪耀光栅 | 第57-60页 |
| ·衍射效率测量与分析 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·论文工作总结 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第70页 |
| 攻读学位期间参加的项目 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |