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新型二维材料的制备、结构表征、光学性质研究及应用

摘要第4-7页
Abstract第7-10页
第1章 绪论第14-48页
    1.1 新型二维材料家族第14-27页
        1.1.1 石墨烯的发现及性质第20-24页
        1.1.2 庞大的新型二维材料家族第24-27页
    1.2 新型二维材料的制备第27-32页
        1.2.1 机械剥离法第28页
        1.2.2 化学剥离法第28-30页
        1.2.3 化学气相沉积法第30-31页
        1.2.4 外延生长法第31-32页
    1.3 新型二维材料薄膜的制备第32-34页
        1.3.1 旋涂法第32-33页
        1.3.2 真空抽滤法第33页
        1.3.3 层层自组装法第33-34页
    1.4 新型二维材料的结构表征第34-37页
        1.4.1 光学显微镜表征第34页
        1.4.2 原子力显微镜表征第34-35页
        1.4.3 透射电子显微镜表征第35-36页
        1.4.4 拉曼光谱表征第36页
        1.4.5 X射线衍射光谱表征第36-37页
    1.5 新型二维材料的光学性质及应用第37-45页
        1.5.1 新型二维材料的线性光学性质第38-40页
        1.5.2 新型二维材料的非线性光学性质第40-42页
        1.5.3 新型二维材料在光纤激光器中的应用第42-44页
        1.5.4 基于新型二维材料的微纳光学器件第44-45页
    1.6 论文工作与创新点第45-48页
第2章 新型二维材料氧化石墨烯的制备、表征及应用第48-80页
    2.1 氧化石墨烯的制备与结构表征第48-53页
        2.1.1 电化学法制备氧化石墨烯第49-50页
        2.1.2 氧化石墨烯的结构表征第50-53页
    2.2 氧化石墨烯的非线性光学性质第53-60页
        2.2.1 Z-scan技术第53-56页
        2.2.2 氧化石墨烯的非线性测量与结果第56-60页
    2.3 基于氧化石墨烯可饱和吸收体的被动锁模光纤激光器第60-75页
        2.3.1 被动锁模技术第60-62页
        2.3.2 光纤激光器第62-66页
        2.3.3 可饱和吸收体第66-69页
        2.3.4 实验装置与结果第69-75页
    2.4 层层自组装法制备氧化石墨烯薄膜及其非线性光学性质第75-77页
        2.4.1 层层自组装法制备氧化石墨烯薄膜第76页
        2.4.2 氧化石墨烯薄膜非线性光学性质的测量第76-77页
    2.5 本章小结第77-80页
第3章 新型二维材料MoS_2的制备、表征及应用第80-90页
    3.1 MoS_2的制备与结构表征第81-83页
        3.1.1脉冲激光沉积法制备MoS_2第81-82页
        3.1.2 MoS_2的结构表征第82页
        3.1.3 MoS_2的非线性光学性质第82-83页
    3.2 基于MoS_2可饱和吸收体的被动调Q光纤激光器第83-89页
        3.2.1 被动调Q技术第83-85页
        3.2.2 实验装置与结果第85-89页
    3.3 本章小结第89-90页
第4章 新型二维材料氮化硼的制备、表征及应用第90-110页
    4.1 氮化硼的制备与结构表征第90-93页
        4.1.1 球磨法制备氮化硼第91-92页
        4.1.2 氮化硼的结构表征第92-93页
    4.2 氮化硼的光学性质测量第93-98页
        4.2.1 氮化硼的线性光学性质第93-94页
        4.2.2 氮化硼的非线性光学性质第94-98页
    4.3 飞秒激光直写氮化硼超薄透镜第98-108页
        4.3.1 飞秒激光直写技术第99-101页
        4.3.2 飞秒激光与氮化硼的相互作用第101-105页
        4.3.3 氮化硼透镜的制备与性能测试第105-108页
    4.4 本章小结第108-110页
第5章 结论与展望第110-114页
    5.1 论文工作总结第110-111页
    5.2 后续研究工作展望第111-114页
参考文献第114-122页
攻读博士学位期间所发表的学术论文第122-124页
致谢第124-125页

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