摘要 | 第4-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
第1章 绪论 | 第14-48页 |
1.1 新型二维材料家族 | 第14-27页 |
1.1.1 石墨烯的发现及性质 | 第20-24页 |
1.1.2 庞大的新型二维材料家族 | 第24-27页 |
1.2 新型二维材料的制备 | 第27-32页 |
1.2.1 机械剥离法 | 第28页 |
1.2.2 化学剥离法 | 第28-30页 |
1.2.3 化学气相沉积法 | 第30-31页 |
1.2.4 外延生长法 | 第31-32页 |
1.3 新型二维材料薄膜的制备 | 第32-34页 |
1.3.1 旋涂法 | 第32-33页 |
1.3.2 真空抽滤法 | 第33页 |
1.3.3 层层自组装法 | 第33-34页 |
1.4 新型二维材料的结构表征 | 第34-37页 |
1.4.1 光学显微镜表征 | 第34页 |
1.4.2 原子力显微镜表征 | 第34-35页 |
1.4.3 透射电子显微镜表征 | 第35-36页 |
1.4.4 拉曼光谱表征 | 第36页 |
1.4.5 X射线衍射光谱表征 | 第36-37页 |
1.5 新型二维材料的光学性质及应用 | 第37-45页 |
1.5.1 新型二维材料的线性光学性质 | 第38-40页 |
1.5.2 新型二维材料的非线性光学性质 | 第40-42页 |
1.5.3 新型二维材料在光纤激光器中的应用 | 第42-44页 |
1.5.4 基于新型二维材料的微纳光学器件 | 第44-45页 |
1.6 论文工作与创新点 | 第45-48页 |
第2章 新型二维材料氧化石墨烯的制备、表征及应用 | 第48-80页 |
2.1 氧化石墨烯的制备与结构表征 | 第48-53页 |
2.1.1 电化学法制备氧化石墨烯 | 第49-50页 |
2.1.2 氧化石墨烯的结构表征 | 第50-53页 |
2.2 氧化石墨烯的非线性光学性质 | 第53-60页 |
2.2.1 Z-scan技术 | 第53-56页 |
2.2.2 氧化石墨烯的非线性测量与结果 | 第56-60页 |
2.3 基于氧化石墨烯可饱和吸收体的被动锁模光纤激光器 | 第60-75页 |
2.3.1 被动锁模技术 | 第60-62页 |
2.3.2 光纤激光器 | 第62-66页 |
2.3.3 可饱和吸收体 | 第66-69页 |
2.3.4 实验装置与结果 | 第69-75页 |
2.4 层层自组装法制备氧化石墨烯薄膜及其非线性光学性质 | 第75-77页 |
2.4.1 层层自组装法制备氧化石墨烯薄膜 | 第76页 |
2.4.2 氧化石墨烯薄膜非线性光学性质的测量 | 第76-77页 |
2.5 本章小结 | 第77-80页 |
第3章 新型二维材料MoS_2的制备、表征及应用 | 第80-90页 |
3.1 MoS_2的制备与结构表征 | 第81-83页 |
3.1.1脉冲激光沉积法制备MoS_2 | 第81-82页 |
3.1.2 MoS_2的结构表征 | 第82页 |
3.1.3 MoS_2的非线性光学性质 | 第82-83页 |
3.2 基于MoS_2可饱和吸收体的被动调Q光纤激光器 | 第83-89页 |
3.2.1 被动调Q技术 | 第83-85页 |
3.2.2 实验装置与结果 | 第85-89页 |
3.3 本章小结 | 第89-90页 |
第4章 新型二维材料氮化硼的制备、表征及应用 | 第90-110页 |
4.1 氮化硼的制备与结构表征 | 第90-93页 |
4.1.1 球磨法制备氮化硼 | 第91-92页 |
4.1.2 氮化硼的结构表征 | 第92-93页 |
4.2 氮化硼的光学性质测量 | 第93-98页 |
4.2.1 氮化硼的线性光学性质 | 第93-94页 |
4.2.2 氮化硼的非线性光学性质 | 第94-98页 |
4.3 飞秒激光直写氮化硼超薄透镜 | 第98-108页 |
4.3.1 飞秒激光直写技术 | 第99-101页 |
4.3.2 飞秒激光与氮化硼的相互作用 | 第101-105页 |
4.3.3 氮化硼透镜的制备与性能测试 | 第105-108页 |
4.4 本章小结 | 第108-110页 |
第5章 结论与展望 | 第110-114页 |
5.1 论文工作总结 | 第110-111页 |
5.2 后续研究工作展望 | 第111-114页 |
参考文献 | 第114-122页 |
攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第122-124页 |
致谢 | 第124-125页 |