| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章绪论 | 第10-17页 |
| ·β-FeSi_2 的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·β-FeSi_2 的光电性能 | 第11-12页 |
| ·β-FeSi_2 的研究进展 | 第12-14页 |
| ·β-FeSi_2 的制备方法 | 第14-15页 |
| ·本文研究思路及内容 | 第15-17页 |
| 第二章β-FeSi_2薄膜的制备与表征 | 第17-29页 |
| ·薄膜的制备 | 第17-20页 |
| ·溅射设备 | 第18页 |
| ·衬底的清洗 | 第18-19页 |
| ·薄膜沉积速率的测定 | 第19-20页 |
| ·薄膜沉积 | 第20页 |
| ·后续退火 | 第20页 |
| ·溅射原理及操作规程 | 第20-24页 |
| ·磁控溅射原理 | 第20-21页 |
| ·离子束溅射原理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射沉积Fe/Si 多层膜的操作规程 | 第23-24页 |
| ·离子束溅射沉积Fe/Si 多层膜的操作规程 | 第24页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第24-29页 |
| ·X 射线衍射 | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜 | 第25-26页 |
| ·近红外-紫外-可见分光光度计 | 第26-27页 |
| ·四探针 | 第27页 |
| ·霍尔效应仪与范德堡法 | 第27-28页 |
| ·台阶仪 | 第28-29页 |
| 第三章磁控溅射法制备β-FeSi_2薄膜及其性能研究 | 第29-36页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·不同厚度比Fe/Si 多层膜样品的结构分析 | 第29-32页 |
| ·Si（111）衬底上薄膜的结构分析 | 第30-31页 |
| ·Si（100）衬底上薄膜的结构分析 | 第31页 |
| ·石英衬底上薄膜的结构分析 | 第31-32页 |
| ·不同厚度比Fe/Si 多层膜样品的形貌分析 | 第32-35页 |
| ·Si(111)衬底上的形貌分析 | 第32-34页 |
| ·石英衬底上的形貌分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 磁控溅射法制备掺杂的p 型β-FeSi_2及其性能研究 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·制备方法 | 第37-38页 |
| ·结构分析 | 第38-40页 |
| ·未掺杂样品的结构分析 | 第38-39页 |
| ·掺杂样品的结构分析 | 第39-40页 |
| ·电学性能分析 | 第40-42页 |
| ·形貌分析 | 第42-43页 |
| ·光学带隙的测定和分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 离子束溅射法制备β-FeSi_2薄膜及其性能研究 | 第46-54页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·相同原子比Fe/Si 多层膜的结构分析 | 第46-48页 |
| ·Si(111)衬底上薄膜的结构分析 | 第47页 |
| ·石英衬底上薄膜的结构分析 | 第47-48页 |
| ·不同原子比Fe/Si 多层膜的结构分析 | 第48-50页 |
| ·Si(111)衬底上薄膜的结构分析 | 第48-49页 |
| ·石英衬底上薄膜的结构分析 | 第49-50页 |
| ·表面形貌分析 | 第50-52页 |
| ·光学带隙的测定和分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第63页 |
| 攻读硕士学位期间参加科研项目情况 | 第63页 |
