| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·Ti-Al-N系金属间化合物薄膜研究进展 | 第12-13页 |
| ·W-Ti-N系金属间化合物薄膜研究进展 | 第13-14页 |
| ·Ti-Al-N和W-Ti-N系金属间氮化物薄膜制备方法 | 第14-21页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第14-16页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第16-21页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第21-23页 |
| 第二章 磁控溅射沉积系统与分析 | 第23-32页 |
| ·PSII磁控溅射沉积系统 | 第23-27页 |
| ·薄膜结构性能分析设备 | 第27-32页 |
| ·薄膜成分、结构、微观形貌等表征手段 | 第27-29页 |
| ·薄膜性能检测系统 | 第29-32页 |
| 第三章 Ti-Al-N系薄膜制备与摩擦学性能研究 | 第32-46页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·双靶反应射频磁控溅射制备Ti-Al-N系薄膜 | 第32-33页 |
| ·基体预处理 | 第32-33页 |
| ·双靶反应射频磁控溅射制备Ti-Al-N系薄膜 | 第33页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜化学成分分析 | 第33-34页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜XRD结果与分析 | 第34-36页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜的硬度变化分析 | 第36-38页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜表面形貌以及粗糙度分析 | 第38-39页 |
| ·Ti-Al-N系列薄膜摩擦学性能分析 | 第39-45页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜摩擦系数结果分析 | 第40-41页 |
| ·Ti-Al-N系薄膜耐磨性能结果分析 | 第41-42页 |
| ·Ti-Al-N系列薄膜磨痕形貌观察 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 W-Ti-N系薄膜制备及摩擦学性能研究 | 第46-61页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·双靶反应射频磁控溅射制备W-Ti-N系薄膜 | 第46-47页 |
| ·基体预处理 | 第46-47页 |
| ·双靶反应射频磁控溅射制备W-Ti-N系薄膜 | 第47页 |
| ·W-Ti-N系薄膜化学成分分析 | 第47-48页 |
| ·W-Ti-N系薄膜XRD结果与分析 | 第48-49页 |
| ·W-Ti-N系薄膜表面形貌结果与分析 | 第49-53页 |
| ·W-Ti-N系薄膜纳米硬度与弹性模量分析 | 第53页 |
| ·W-Ti-N系薄膜膜基结合力分析 | 第53-55页 |
| ·W-Ti-N系薄膜摩擦学性能分析 | 第55-59页 |
| ·W-Ti-N系薄膜摩擦系数结果分析 | 第55-57页 |
| ·W-Ti-N系薄膜耐磨性能结果分析 | 第57-58页 |
| ·W-Ti-N系列薄膜磨痕形貌观察 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第70页 |
| 申请国家发明专利 | 第70页 |