双极型集成电路与恒流二极管的兼容制造方法
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第6-13页 |
1.1 概述 | 第6-8页 |
1.2 国内外研究现状和发展趋势 | 第8-10页 |
1.3 研究双极型集成电路与恒流二极管兼容的意义 | 第10-11页 |
1.4 本论文的主要工作和结构体系 | 第11-13页 |
第二章 数值方程与器件物理模型 | 第13-21页 |
2.1 基本方程 | 第13-17页 |
2.1.1 基本方程 | 第13-15页 |
2.1.2 PN结 | 第15-17页 |
2.2 器件物理模型 | 第17-19页 |
2.2.1 玻尔兹曼方程 | 第17页 |
2.2.2 迁移率模型 | 第17-18页 |
2.2.3 复合模型 | 第18-19页 |
2.2.4 禁带宽度模型 | 第19页 |
2.2.5 碰撞电离模型 | 第19页 |
2.3 数值计算方法 | 第19-20页 |
2.4 本章小结 | 第20-21页 |
第三章 恒流二极管的制造方法 | 第21-32页 |
3.1 恒流二极管的工作原理 | 第21-23页 |
3.2 恒流二极管的制造 | 第23-25页 |
3.3 恒流二极管的参数优化 | 第25-31页 |
3.3.1 沟道掺杂浓度 | 第26-27页 |
3.3.2 沟道长度 | 第27-28页 |
3.3.3 沟道宽度 | 第28-29页 |
3.3.4 栅漏间距 | 第29-30页 |
3.3.5 参数优化前后特性分析 | 第30-31页 |
3.4 本章小结 | 第31-32页 |
第四章 双极型器件和恒流二极管的兼容 | 第32-62页 |
4.1 双极型器件的制造 | 第32-40页 |
4.1.1 NPN型双极型器件的制造 | 第34-38页 |
4.1.2 电阻、二极管、电容的制造 | 第38-40页 |
4.2 兼容结构的设计 | 第40-47页 |
4.2.1 兼容结构的调整 | 第40-43页 |
4.2.2 兼容结构的可行性分析 | 第43-44页 |
4.2.3 兼容结构的制造 | 第44-47页 |
4.3 结构参数的影响 | 第47-55页 |
4.3.1 发射区掺杂剂量 | 第48-51页 |
4.3.2 基区掺杂剂量 | 第51-53页 |
4.3.3 沟道长度 | 第53-55页 |
4.4 电路仿真、工艺流程和版图的设计 | 第55-61页 |
4.4.1 电路仿真 | 第55-56页 |
4.4.2 兼容工艺流程 | 第56-57页 |
4.4.3 版图的设计 | 第57-61页 |
4.5 本章小结 | 第61-62页 |
第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
5.1 总结 | 第62-63页 |
5.2 展望 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-67页 |
附录 | 第67-68页 |