| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 高介电介质材料替代 SiO_2的依据 | 第11-13页 |
| 1.3 高介电介质材料简介 | 第13-15页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第15-21页 |
| 1.4.1 Ta_2O_5的晶体结构 | 第15-17页 |
| 1.4.2 Ta_2O_5基材料的介电掺杂改性 | 第17-18页 |
| 1.4.3 Ta_2O_5基晶体生长技术及进展 | 第18-19页 |
| 1.4.4 Nb_2O_5简介 | 第19-20页 |
| 1.4.5 蓝宝石简介 | 第20-21页 |
| 1.5 晶体生长技术简介 | 第21-27页 |
| 1.5.1 熔体法晶体生长简介 | 第22-25页 |
| 1.5.2 浮区法简介 | 第25-26页 |
| 1.5.3 浮区法晶体生长应用 | 第26-27页 |
| 1.6 课题的提出 | 第27-29页 |
| 1.7 本论文研究目的与研究内容 | 第29页 |
| 1.8 本文结构 | 第29-30页 |
| 第2章 光学浮区法生长晶体的理论与实验基础 | 第30-48页 |
| 2.1 光学浮区法生长晶体原理 | 第30-35页 |
| 2.2 光学浮区法设备简介 | 第35-38页 |
| 2.3 实验准备工艺流程 | 第38-42页 |
| 2.3.1 粉料制备 | 第39页 |
| 2.3.2 多晶棒制备 | 第39-41页 |
| 2.3.3 籽晶制备 | 第41-42页 |
| 2.4 光学浮区炉操作规程 | 第42页 |
| 2.5 材料表征方法 | 第42-47页 |
| 2.5.1 X 射线衍射分析（XRD） | 第42-43页 |
| 2.5.2 单晶衍射仪 | 第43页 |
| 2.5.3 晶体表面形貌与显微形貌表征 | 第43-44页 |
| 2.5.4 拉曼光谱 | 第44-45页 |
| 2.5.5 介电性能测量 | 第45页 |
| 2.5.6 透过率测试 | 第45页 |
| 2.5.7 成分分析 | 第45-46页 |
| 2.5.8 晶体的后期处理 | 第46-47页 |
| 2.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第3章 光学浮区法生长 Ta_2O_5单晶及其介电性能研究 | 第48-72页 |
| 3.1 Ta_2O_5多晶棒制备 | 第48页 |
| 3.2 Ta_2O_5单晶生长技术参数的确定 | 第48-58页 |
| 3.2.1 自发成核 | 第49-50页 |
| 3.2.2 熔区形状和晶体直径 | 第50-51页 |
| 3.2.3 旋转速率 | 第51-53页 |
| 3.2.4 温场分布 | 第53-55页 |
| 3.2.5 生长速度 | 第55页 |
| 3.2.6 生长条纹 | 第55-57页 |
| 3.2.7 优化的技术参数 | 第57-58页 |
| 3.3 Ta_2O_5单晶表征 | 第58-62页 |
| 3.3.1 Ta_2O_5晶体定向与加工 | 第58-59页 |
| 3.3.2 Ta_2O_5晶体的生长方向 | 第59-60页 |
| 3.3.3 Ta_2O_5晶体的结晶质量 | 第60-62页 |
| 3.3.4 Ta_2O_5单晶的透过率光谱 | 第62页 |
| 3.4 Ta_2O_5单晶介电性能 | 第62-65页 |
| 3.5 Ta_2O_5单晶高介电常数机理分析 | 第65-71页 |
| 3.5.1 Ta_2O_5单晶结构分析 | 第65-69页 |
| 3.5.2 Ta_2O_5单晶拉曼光谱分析 | 第69-71页 |
| 3.6 本章小结 | 第71-72页 |
| 第4章 光学浮区法生长(Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶及其介电性能研究 | 第72-97页 |
| 4.1 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x多晶棒制备 | 第72-73页 |
| 4.2 (Ta_2O_5)_(1-x)(TiO_2)_x单晶生长 | 第73-77页 |
| 4.2.1 分凝系数 | 第74-77页 |
| 4.2.2 优化的技术参数 | 第77页 |
| 4.3 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶表征 | 第77-80页 |
| 4.3.1 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶生长方向 | 第77-78页 |
| 4.3.2 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶结晶质量 | 第78-80页 |
| 4.4 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶介电性能增强 | 第80-86页 |
| 4.5 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶介电性能增强机理 | 第86-95页 |
| 4.5.1 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶结构分析 | 第86-88页 |
| 4.5.2 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶拉曼光谱分析 | 第88-90页 |
| 4.5.3 (Ta_2O_5)_(1－x)(TiO_2)_x单晶显微分析 | 第90-95页 |
| 4.6 本章小结 | 第95-97页 |
| 第5章 光学浮区法生长 Nb_2O_5和 Fe:Ti:Al_2O_3晶体 | 第97-116页 |
| 5.1 Nb_2O_5单晶生长 | 第97-99页 |
| 5.1.1 Nb_2O_5多晶棒制备 | 第97-98页 |
| 5.1.2 Nb_2O_5单晶生长 | 第98-99页 |
| 5.2 Nb_2O_5单晶结构和性能表征 | 第99-104页 |
| 5.2.1 Nb_2O_5晶体结构和结晶质量表征 | 第99-102页 |
| 5.2.2 Nb_2O_5单晶介电性能 | 第102-104页 |
| 5.3 Fe:Ti:Al_2O_3单晶生长 | 第104-107页 |
| 5.3.1 Fe:Ti:Al_2O_3多晶棒制备 | 第104-105页 |
| 5.3.2 Fe:Ti:Al_2O_3单晶生长 | 第105-107页 |
| 5.4 Fe:Ti:Al_2O_3单晶结构和性能表征 | 第107-114页 |
| 5.4.1 Fe:Ti:Al_2O_3晶体结构和结晶质量表征 | 第107-113页 |
| 5.4.2 Fe:Ti:Al_2O_3单晶介电性能 | 第113-114页 |
| 5.5 本章小结 | 第114-116页 |
| 结论与展望 | 第116-119页 |
| 参考文献 | 第119-132页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文及申请的专利 | 第132-134页 |
| 致谢 | 第134页 |
