基于薄膜热电堆的新型高温瞬态热流密度传感器的研制
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 课题的背景 | 第9-10页 |
| 1.1.1 热流密度传感器的起源与发展 | 第9-10页 |
| 1.1.2 热流密度传感器的应用 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 热流密度传感器测量原理 | 第15-27页 |
| 2.1 热电偶测温原理 | 第15-16页 |
| 2.1.1 接触电势 | 第15页 |
| 2.1.2 温差电势 | 第15-16页 |
| 2.1.3 热电偶测温总电势 | 第16页 |
| 2.2 热阻式热流密度传感器测量原理 | 第16-17页 |
| 2.3 热电堆式热流密度传感器测量原理 | 第17-18页 |
| 2.4 材料的选择 | 第18-20页 |
| 2.4.1 热电偶材料的选择 | 第18-19页 |
| 2.4.2 热阻层材料的选择 | 第19-20页 |
| 2.4.3 绝缘层材料的选择 | 第20页 |
| 2.5 热流密度传感器的结构设计 | 第20-24页 |
| 2.5.1 热组层结构设计 | 第21-22页 |
| 2.5.2 热电堆结构设计 | 第22-24页 |
| 2.6 热流密度传感器的理论计算 | 第24-25页 |
| 2.7 本章小结 | 第25-27页 |
| 第3章 热流密度传感器的制作 | 第27-41页 |
| 3.1 确定制作方案 | 第27页 |
| 3.2 剥离工艺 | 第27页 |
| 3.3 光刻工艺 | 第27-33页 |
| 3.3.1 基片清洗 | 第29页 |
| 3.3.2 预烘烤 | 第29页 |
| 3.3.3 旋转涂胶 | 第29-30页 |
| 3.3.4 对准和曝光 | 第30-32页 |
| 3.3.5 显影 | 第32-33页 |
| 3.3.6 图形检测 | 第33页 |
| 3.4 薄膜溅射沉积工艺 | 第33-39页 |
| 3.4.1 镀膜过程 | 第33-34页 |
| 3.4.2 离子束能量的确定 | 第34-39页 |
| 3.5 引线连接 | 第39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 热流密度传感器的标定 | 第41-53页 |
| 4.1 标定系统的介绍 | 第41页 |
| 4.2 标定系统的搭建 | 第41-47页 |
| 4.2.1 标定配置 | 第42-43页 |
| 4.2.2 标定过程 | 第43-44页 |
| 4.2.3 标定结果和分析 | 第44-47页 |
| 4.3 热流密度传感器一致性测试 | 第47-48页 |
| 4.4 热流密度传感器重复性测试 | 第48-50页 |
| 4.5 误差分析 | 第50-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 本文主要工作总结 | 第53-55页 |
| 5.1 本文主要工作总结 | 第53-54页 |
| 5.2 本文的创新点 | 第54页 |
| 5.3 工作展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
