| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·Al_2O_3薄膜国内外发展状况 | 第10-12页 |
| ·国内研究现状 | 第10-11页 |
| ·国外研究现状 | 第11-12页 |
| ·Al_2O_3薄膜研究现状 | 第12-15页 |
| ·Al_2O_3的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·Al_2O_3的特性 | 第13-14页 |
| ·Al_2O_3薄膜的应用 | 第14-15页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备技术 | 第15-18页 |
| ·物理气相沉积 | 第15-17页 |
| ·化学气相沉积 | 第17-18页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第18页 |
| ·实验 | 第18页 |
| ·性能的测量 | 第18页 |
| ·论文章节安排 | 第18-20页 |
| 2 试验设备与工艺过程 | 第20-28页 |
| ·工艺简介 | 第20-23页 |
| ·磁控溅射 | 第20-22页 |
| ·反应溅射 | 第22-23页 |
| ·试验设备简介 | 第23页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第23-25页 |
| ·工艺因素分析 | 第23-25页 |
| ·工艺因素参数的选择 | 第25页 |
| ·分析氧气流量和溅射电压的变化关系 | 第25-26页 |
| ·氧气浓度的计算 | 第26-28页 |
| 3 制备方案和测试 | 第28-36页 |
| ·制备方案 | 第28页 |
| ·工艺流程 | 第28-29页 |
| ·Taylor Hobson非接触式轮廓仪测试原理 | 第29-30页 |
| ·椭圆偏振光谱仪测试原理 | 第30-32页 |
| ·光学性能测试分析原理 | 第30-31页 |
| ·光学常数测量过程 | 第31-32页 |
| ·薄膜结晶情况分析 | 第32-33页 |
| ·XRD原理简介 | 第32-33页 |
| ·表面形貌分析 | 第33-34页 |
| ·薄膜组成元素分析 | 第34-36页 |
| 4 工艺参数对Al_2O_3薄膜性能的影响分析 | 第36-61页 |
| ·氧气浓度对薄膜性能的影响分析 | 第36-44页 |
| ·氧气浓度对薄膜沉积速率影响分析 | 第36-37页 |
| ·氧气浓度对Al_2O_3薄膜折射率和消光系数的影响分析 | 第37-38页 |
| ·氧气浓度对薄膜结构的影响 | 第38-39页 |
| ·氧气浓度对薄膜成分的影响 | 第39-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·靶功率对薄膜性能的影响分析 | 第44-53页 |
| ·靶功率对薄膜沉积速率影响分析 | 第45-46页 |
| ·靶功率对Al_2O_3薄膜折射率和消光系数的影响分析 | 第46-47页 |
| ·靶功率对薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·靶功率对薄膜成分的影响 | 第48-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| ·溅射气压对薄膜性能的影响分析 | 第53-56页 |
| ·溅射气压对薄膜沉积速率影响分析 | 第53-54页 |
| ·溅射气压对Al_2O_3薄膜折射率和消光系数的影响分析 | 第54-55页 |
| ·溅射气压对薄膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56页 |
| ·靶基距对薄膜性能的影响分析 | 第56-61页 |
| ·靶基距对薄膜沉积速率影响分析 | 第57页 |
| ·靶基距对Al_2O_3薄膜折射率和消光系数的影响分析 | 第57-59页 |
| ·靶基距对薄膜表面形貌的影响 | 第59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 5 Al_2O_3薄膜抗激光损伤应用 | 第61-68页 |
| ·激光损伤机理的理论研究 | 第61页 |
| ·测试方法、测试装置和损伤的判别 | 第61-63页 |
| ·测试方法 | 第61-62页 |
| ·测试装置 | 第62-63页 |
| ·损伤的判别 | 第63页 |
| ·工艺参数对薄膜抗激光损伤影响分析 | 第63-67页 |
| ·氧气浓度对抗激光损伤影响分析 | 第63-65页 |
| ·靶功率对抗激光损伤影响分析 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 6 结论 | 第68-71页 |
| ·结论 | 第68-69页 |
| ·展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
