磁约束磁控溅射源的特性测试
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第8页 |
| ·磁控溅射技术的发展历程与现状 | 第8-15页 |
| ·磁控溅射技术的发展历程 | 第8-9页 |
| ·磁控溅射技术的发展现状 | 第9-15页 |
| ·课题研究内容 | 第15页 |
| ·本文内容安排 | 第15-17页 |
| 2 磁约束磁控溅射源的工作原理 | 第17-31页 |
| ·气体放电与等离子体 | 第17-24页 |
| ·气体放电中的基本过程与分类 | 第19-20页 |
| ·等离子体的基本概念与性质 | 第20-22页 |
| ·低温等离子体与成膜 | 第22-24页 |
| ·磁约束磁控溅射源的工作原理 | 第24-31页 |
| ·磁控溅射原理 | 第24-28页 |
| ·磁约束原理及应用 | 第28-29页 |
| ·磁约束磁控溅射源的结构与工作原理 | 第29-31页 |
| 3 磁约束磁控溅射源的安装与调试 | 第31-38页 |
| ·磁约束磁控溅射源实验平台 | 第31页 |
| ·磁约束磁控溅射源的安装 | 第31-32页 |
| ·磁约束磁控溅射源的调试 | 第32-37页 |
| ·靶的磁场调试 | 第32-35页 |
| ·靶的气路调试 | 第35页 |
| ·靶的电场调试 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 4 磁约束磁控溅射源的工作特性 | 第38-43页 |
| ·磁约束磁控溅射源的磁场分析 | 第38-40页 |
| ·磁控溅射源对磁场的基本要求 | 第38页 |
| ·磁场的有限元分析与测量 | 第38-40页 |
| ·磁约束磁控溅射源伏安特性 | 第40-41页 |
| ·工作真空度与靶电压之间的关系 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 5 等离子体的诊断 | 第43-65页 |
| ·等离子体诊断方法 | 第43-48页 |
| ·接触法 | 第43-46页 |
| ·非接触法 | 第46-48页 |
| ·实验装置及诊断原理 | 第48-56页 |
| ·朗缪尔探针工作中的基本概念 | 第48-50页 |
| ·朗缪尔探针的制作 | 第50-54页 |
| ·朗缪尔探针的工作原理 | 第54-56页 |
| ·工艺参数与放电等离子体参数的关系 | 第56-59页 |
| ·真空度和靶电流对等离子体密度的影响 | 第57-58页 |
| ·真空度和靶电流对等离子体电子温度的影响 | 第58-59页 |
| ·真空度和靶电流对等离子体电位的影响 | 第59页 |
| ·等离子体参数的空间分布特性 | 第59-64页 |
| ·磁场对等离子体参数的影响 | 第60-62页 |
| ·等离子体参数的空间分布 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 6 结论 | 第65-68页 |
| ·结论 | 第65页 |
| ·后期展望 | 第65-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
