中文摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 文献综述 | 第10-22页 |
1.1 硅的简介及多晶硅的分类 | 第10-11页 |
1.1.1 硅的简介 | 第10页 |
1.1.2 多晶硅的分类 | 第10-11页 |
1.2 多晶硅材料在国民经济中的重要性 | 第11-12页 |
1.2.1 电子级多晶硅材料在电子信息行业中的重要性 | 第11页 |
1.2.2 太阳能级多晶硅材料在新能源太阳能光伏行业中的重要性 | 第11-12页 |
1.3 国内外多晶硅工业的发展概况 | 第12-13页 |
1.3.1 国外多晶硅工业的发展概况 | 第12页 |
1.3.2 我国多晶硅工业的发展概况 | 第12-13页 |
1.3.3 近年来全球及我国多晶硅产量发展情况 | 第13页 |
1.4 多晶硅的主要生产工艺 | 第13-17页 |
1.4.1 冶金法(物理法) | 第13-14页 |
1.4.2 硅烷法 | 第14-15页 |
1.4.3 改良西门子法 | 第15-17页 |
1.5 多晶硅质量标准 | 第17-19页 |
1.5.1 太阳能级多晶硅质量标准 | 第17-18页 |
1.5.2 电子级多晶硅质量标准 | 第18-19页 |
1.6 本课题的研究意义和主要内容 | 第19-22页 |
1.6.1 本课题的研究意义 | 第19-20页 |
1.6.2 本课题研究的主要内容 | 第20-22页 |
第2章 各工序对产品质量影响因素分析与质量控制 | 第22-42页 |
2.1 外购原料硅粉和三氯氢硅质量影响分析与控制 | 第23-24页 |
2.1.1 外购原料硅粉和三氯氢硅中杂质的来源 | 第23页 |
2.1.2 外购原料与精馏三氯氢硅产品中的杂质对应关系 | 第23-24页 |
2.1.3 外购原料的质量控制 | 第24页 |
2.2 三氯氢硅精馏工序质量影响分析与控制 | 第24-27页 |
2.2.1 精馏工艺流程及其中的杂质 | 第25页 |
2.2.2 精馏三氯氢硅产品与多晶硅杂质浓度的关系 | 第25-26页 |
2.2.3 精馏提纯的质量控制 | 第26-27页 |
2.3 氢气质量影响分析与控制 | 第27-30页 |
2.3.1 原氢质量影响分析与控制 | 第27-28页 |
2.3.2 干法回收氢质量影响分析与控制 | 第28-30页 |
2.4 氢还原工序质量影响因素分析与控制 | 第30-35页 |
2.4.1 氢还原反应原理与工艺流程 | 第30-31页 |
2.4.2 反应温度对多晶硅质量的影响分析与控制 | 第31-34页 |
2.4.3 氢气与三氯氢硅混合气配比影响分析与控制 | 第34页 |
2.4.4 氢还原启炉时置换影响因素分析与控制 | 第34-35页 |
2.5 多晶硅后处理环节质量影响因素分析与表面杂质控制 | 第35-39页 |
2.5.1 多晶硅后处理工艺流程 | 第35-36页 |
2.5.2 多晶硅后处理过程对产品质量的影响分析 | 第36-38页 |
2.5.3 多晶硅后处理过程质量控制措施 | 第38-39页 |
2.6 环境洁净度影响分析与控制 | 第39-41页 |
2.6.1 设备洁净度的影响分析与质量控制 | 第39-40页 |
2.6.2 多晶硅后处理区域洁净度的影响分析与质量控制 | 第40-41页 |
2.7 本章小结 | 第41-42页 |
第3章 精馏新技术提高产品质量的工程化研究 | 第42-52页 |
3.1 精馏塔分离效率的重要性 | 第42-45页 |
3.1.1 分离效率是精馏提高产品质量的关键技术 | 第42-43页 |
3.1.2 普通筛板分离效率低 | 第43-44页 |
3.1.3 高效导向筛板与新型高效填料技术提高分离效率 | 第44-45页 |
3.2 优化工艺流程提高精馏塔操作稳定性 | 第45-46页 |
3.3 精馏新技术提高产品质量的工程化应用实践 | 第46-51页 |
3.3.1 氢化三氯氢硅粗馏塔系工程化改造实践 | 第46-48页 |
3.3.2 外购三氯氢硅精馏塔系工程化改造实践 | 第48-51页 |
3.4 本章小结 | 第51-52页 |
第4章 太阳能级多晶硅产品外观质量细化分类的研究 | 第52-56页 |
4.1 太阳能级多晶硅产品外观质量状况分析 | 第52页 |
4.2 太阳能级多晶硅产品外观质量细化分类的研究方法 | 第52-53页 |
4.3 太阳能级多晶硅产品外观质量细化分类的研究成果 | 第53-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-56页 |
第5章 结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |