可见光辐照下石墨烯透明电极导电性能变化研究
中文摘要 | 第3-5页 |
英文摘要 | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-19页 |
1.1 透明电极简介 | 第9-11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-16页 |
1.3 本课题的研究内容与研究意义 | 第16-19页 |
1.3.1 本课题的研究内容 | 第16-17页 |
1.3.2 本课题的研究意义 | 第17-19页 |
2 实验样品与系统 | 第19-45页 |
2.1 石墨烯透明电极样品制备 | 第19-30页 |
2.1.1 实验所需材料与设备 | 第21-23页 |
2.1.2 石墨烯透明薄膜CVD法生长工艺 | 第23-25页 |
2.1.3 不同基底石墨烯的转移 | 第25-27页 |
2.1.4 不同基底石墨烯的图形化 | 第27-30页 |
2.2 石墨烯薄膜的表征 | 第30-36页 |
2.2.1 光学显微镜分析 | 第30-31页 |
2.2.2 扫描电子显微镜表征 | 第31-32页 |
2.2.3 原子力显微镜表征 | 第32-33页 |
2.2.4 拉曼光谱表征 | 第33-34页 |
2.2.5 透过率表征 | 第34-35页 |
2.2.6 方块电阻表征 | 第35-36页 |
2.3 石墨烯辐照实验系统 | 第36-42页 |
2.3.1 实验光源 | 第38页 |
2.3.2 真空充气试验系统 | 第38-39页 |
2.3.3 阻抗分析仪和计算机 | 第39-40页 |
2.3.4 电控机械遮光板 | 第40-41页 |
2.3.5 电路实现与样品固定 | 第41-42页 |
2.4 实验操作步骤 | 第42页 |
2.5 本章小结 | 第42-45页 |
3 周期光辐照响应特性 | 第45-63页 |
3.1 不同波长光源辐照影响 | 第45-50页 |
3.2 掺杂影响 | 第50-56页 |
3.3 环境氛围影响 | 第56-61页 |
3.4 光功率密度影响 | 第61页 |
3.5 本章小结 | 第61-63页 |
4 长期光辐照稳定性 | 第63-79页 |
4.1 不同波长光源长期辐照影响 | 第63-69页 |
4.2 掺杂对长期稳定性影响 | 第69-72页 |
4.3 环境氛围对长期稳定性影响 | 第72-76页 |
4.4 本章小结 | 第76-79页 |
5 机理分析 | 第79-87页 |
5.1 光热效应分析 | 第79-81页 |
5.1.1 基底温升实验 | 第79-80页 |
5.1.2 石墨烯温升实验 | 第80-81页 |
5.1.3 光热效应的影响 | 第81页 |
5.2 分子吸附/脱附作用分析 | 第81-86页 |
5.2.1 光源不同对光致电阻变化的影响 | 第83-84页 |
5.2.2 掺杂对光致电阻变化的影响 | 第84-85页 |
5.2.3 环境氛围不同对光致电阻变化的影响 | 第85页 |
5.2.4 基底不同对光致电阻变化的影响 | 第85-86页 |
5.2.5 分子吸附/脱附作用的影响 | 第86页 |
5.3 本章小结 | 第86-87页 |
6 总结与展望 | 第87-89页 |
6.1 本文工作总结 | 第87-88页 |
6.2 有待进一步解决的问题 | 第88-89页 |
致谢 | 第89-91页 |
参考文献 | 第91-97页 |
附录 | 第97页 |
A. 作者在攻读硕士学位期间发表的文章 | 第97页 |
B. 参与的科研项目 | 第97页 |