| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| 1.1 氧化石墨烯的结构与性质 | 第9-11页 |
| 1.1.1 氧化石墨烯的结构 | 第9-10页 |
| 1.1.2 氧化石墨烯的性质 | 第10-11页 |
| 1.2 氧化石墨烯的制备 | 第11-12页 |
| 1.3 氧化石墨烯的表征 | 第12-16页 |
| 1.3.1 微观显微镜分析技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 光谱学分析技术 | 第14-16页 |
| 1.4 氧化石墨烯的还原 | 第16-20页 |
| 1.4.1 氧化石墨烯还原的判定 | 第16-17页 |
| 1.4.2 氧化石墨烯还原的方法 | 第17-19页 |
| 1.4.3 氧化石墨烯还原的机理 | 第19-20页 |
| 1.5 氧化石墨烯的自组装成膜 | 第20-22页 |
| 1.5.1 氧化石墨烯的定向流动成膜 | 第21页 |
| 1.5.2 氧化石墨烯的 LB 成膜 | 第21页 |
| 1.5.3 氧化石墨烯的层-层沉积成膜 | 第21-22页 |
| 1.5.4 氧化石墨烯的气液界面成膜 | 第22页 |
| 1.6 氧化石墨烯的应用 | 第22-25页 |
| 1.6.1 表面活性剂 | 第22-23页 |
| 1.6.2 生物医药领域 | 第23页 |
| 1.6.3 能量转换存储领域 | 第23-24页 |
| 1.6.4 电化学传感器领域 | 第24-25页 |
| 1.7 基于不同 pH 值的氧化石墨烯的性质与应用 | 第25-28页 |
| 1.7.1 pH 值对氧化石墨烯形貌的影响 | 第26页 |
| 1.7.2 pH 值对氧化石墨烯性质的影响 | 第26-27页 |
| 1.7.3 氧化石墨烯凝-散的开关——pH 值 | 第27-28页 |
| 1.7.4 基于石墨烯的 pH 值传感器 | 第28页 |
| 1.8 本论文的研究内容及意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方法和仪器 | 第30-38页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第30-31页 |
| 2.1.2 实验设备与仪器 | 第31页 |
| 2.2 表征分析方法及设备简介 | 第31-34页 |
| 2.3 氧化石墨烯水溶胶的制备及自组装成膜 | 第34-38页 |
| 2.3.1 氧化石墨的制备 | 第34-35页 |
| 2.3.2 氧化石墨烯水溶胶的制备 | 第35-36页 |
| 2.3.3 氧化石墨烯的自组装成膜 | 第36-38页 |
| 第三章 基于 pH 值的氧化石墨烯的尺寸、表面化学及电化学性质调控 | 第38-53页 |
| 3.1 实验部分 | 第39-40页 |
| 3.1.1 氧化石墨烯的 pH 值调控 | 第39页 |
| 3.1.2 透光度及粒度测试样的制备 | 第39页 |
| 3.1.3 氧化石墨烯修饰电极的制备 | 第39-40页 |
| 3.2 氧化石墨烯的表征 | 第40-44页 |
| 3.2.1 氧化石墨烯的形貌及光学性质 | 第40-41页 |
| 3.2.2 氧化石墨烯的尺寸及稳定性 | 第41-42页 |
| 3.2.3 氧化石墨烯的表面化学性质 | 第42-43页 |
| 3.2.4 氧化石墨烯的 Raman 表征 | 第43-44页 |
| 3.3 氧化石墨烯的电化学性质研究 | 第44-48页 |
| 3.4 氧化石墨烯的传感性能研究 | 第48-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 基于 pH 值的氧化石墨烯自组装膜及电化学性质研究 | 第53-67页 |
| 4.1 实验部分 | 第54-55页 |
| 4.1.1 氧化石墨气液界面自组装成膜 | 第54页 |
| 4.1.2 氧化石墨烯薄膜修饰电极的制备 | 第54-55页 |
| 4.1.3 不同 pH 值的磷酸盐缓冲液的配备 | 第55页 |
| 4.2 氧化石墨烯薄膜的表征 | 第55-60页 |
| 4.2.1 宏观及微观形貌的表征 | 第55-56页 |
| 4.2.2 光学性质的表征 | 第56-57页 |
| 4.2.3 表面化学性质的表征 | 第57-59页 |
| 4.2.4 微观结构的表征 | 第59-60页 |
| 4.3 氧化石墨烯薄膜电化学性质的研究 | 第60-63页 |
| 4.4 基于氧化石墨烯薄膜的 pH 值传感器 | 第63-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 基于 pH 值的氧化石墨烯薄膜的还原过程研究 | 第67-87页 |
| 5.1 实验部分 | 第68-70页 |
| 5.1.1 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第68页 |
| 5.1.2 HI 还原氧化石墨烯薄膜 | 第68-69页 |
| 5.1.3 HI 还原温度的探索 | 第69-70页 |
| 5.1.4 水合肼还原氧化石墨烯薄膜 | 第70页 |
| 5.1.5 热还原氧化石墨烯薄膜 | 第70页 |
| 5.2 还原氧化石墨烯薄膜的形貌分析 | 第70-73页 |
| 5.3 还原氧化石墨烯薄膜的组成分析 | 第73-76页 |
| 5.4 还原氧化石墨烯薄膜的机械性能分析 | 第76-77页 |
| 5.5 pH 值对氧化石墨烯薄膜还原过程的影响 | 第77-80页 |
| 5.5.1 缺陷分析-Raman | 第78-79页 |
| 5.5.2 导电性分析 | 第79-80页 |
| 5.6 pH 值对 HI 还原氧化石墨烯薄膜过程的影响 | 第80-84页 |
| 5.6.1 还原程度分析——XPS | 第80-81页 |
| 5.6.2 成分分析——FTIR | 第81-82页 |
| 5.6.3 晶型分析——XRD | 第82-83页 |
| 5.6.4 电子传递速率的分析——方块电阻 | 第83-84页 |
| 5.7 HI 还原的氧化石墨烯薄膜的应用前景探索 | 第84-85页 |
| 5.8 本章小结 | 第85-87页 |
| 第六章 结论与展望 | 第87-90页 |
| 6.1 本文主要结论 | 第87-88页 |
| 6.2 本文主要创新点 | 第88-89页 |
| 6.3 今后工作展望 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-97页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98页 |
