超声辅助电化学机械抛光仿真与实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题的来源及研究的背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状分析 | 第11-16页 |
| 1.2.1 碳化硅抛光加工研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 电化学抛光研究现状 | 第14页 |
| 1.2.3 超声电化学抛光研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 课题主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 超声辅助抛光流场CFD理论 | 第17-25页 |
| 2.1 超声辅助守恒方程与湍流模型 | 第17-19页 |
| 2.1.1 流体控制方程 | 第17-18页 |
| 2.1.2 湍流模型 | 第18-19页 |
| 2.2 超声辅助流场温度分布理论 | 第19-21页 |
| 2.2.1 传热模型概述 | 第19-20页 |
| 2.2.2 自然对流和浮力流理论 | 第20-21页 |
| 2.2.3 壁面边界传热理论 | 第21页 |
| 2.3 超声辅助流场电化学耦合理论 | 第21-25页 |
| 第3章 超声辅助抛光流场CFD仿真 | 第25-50页 |
| 3.1 流场模型 | 第25-26页 |
| 3.2 超声振动参数对流场的影响 | 第26-35页 |
| 3.2.1 超声空化作用影响 | 第26-31页 |
| 3.2.2 超声频率影响 | 第31-33页 |
| 3.2.3 超声振幅影响 | 第33-35页 |
| 3.3 带孔抛光垫对流场影响 | 第35-38页 |
| 3.3.1 小孔的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.2 小孔深度H的影响 | 第37-38页 |
| 3.4 流体膜厚度对流场的影响 | 第38-39页 |
| 3.5 不可压缩气体和饱和蒸气压的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.1 不可压缩气体的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.2 饱和蒸气压的影响 | 第40页 |
| 3.6 流场内有效加工区域及最小膜厚 | 第40-43页 |
| 3.6.1 有效加工区域 | 第40-43页 |
| 3.6.2 最小膜厚的确定 | 第43页 |
| 3.7 抛光流场内的规律总结 | 第43-48页 |
| 3.7.1 抛光流场二次空化现象 | 第43-44页 |
| 3.7.2 抛光流场内滞后现象 | 第44-46页 |
| 3.7.3 抛光流场内机械波干涉现象 | 第46-48页 |
| 3.8 抛光流场内磨粒的机械去除 | 第48-49页 |
| 3.9 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 超声辅助流场温度分布与电化学仿真 | 第50-68页 |
| 4.1 抛光温度场仿真 | 第50-58页 |
| 4.1.1 模型建立 | 第50页 |
| 4.1.2 超声振动过程摩擦生热分析 | 第50-51页 |
| 4.1.3 温度场参数估算和结果分析 | 第51-58页 |
| 4.2 抛光电场仿真 | 第58-62页 |
| 4.2.1 模型建立 | 第58-59页 |
| 4.2.2 电场参数分布 | 第59-62页 |
| 4.3 电化学传质仿真 | 第62-66页 |
| 4.3.1 电极钝化和离子迁移 | 第62-65页 |
| 4.3.2 电化学腐蚀形变 | 第65-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 超声辅助抛光实验 | 第68-81页 |
| 5.1 实验前的准备 | 第68-70页 |
| 5.1.1 改进实验装置 | 第68-69页 |
| 5.1.2 抛光液配制 | 第69页 |
| 5.1.3 传感器标定与Labview采集 | 第69-70页 |
| 5.2 超声辅助实验分析 | 第70-78页 |
| 5.2.1 抛光液种类的影响 | 第70-72页 |
| 5.2.2 催化剂铁粉的影响 | 第72页 |
| 5.2.3 磨粒的影响 | 第72-73页 |
| 5.2.4 加载力的影响 | 第73-75页 |
| 5.2.5 绒布抛光垫的影响 | 第75页 |
| 5.2.6 外加电场的影响 | 第75-76页 |
| 5.2.7 超声辅助的影响 | 第76-78页 |
| 5.3 试件形貌分析 | 第78-80页 |
| 5.4 本章小结 | 第80-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
