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金手指测试片化学复合镀层制备及其性能研究

摘要第9-10页
ABSTRACT第10-11页
第一章 绪论第12-22页
    1.1 研究背景第12-15页
        1.1.1 选题背景第12-13页
        1.1.2 金手指表面处理工艺第13-15页
    1.2 化学镀简介第15-17页
        1.2.1 历史回顾第15-16页
        1.2.2 化学镀机理第16-17页
        1.2.3 化学镀的研究现状和存在的问题第17页
    1.3 化学镀的应用现状第17-19页
        1.3.1 在航空航天工业方面的应用第18页
        1.3.2 在电子工业方面的应用第18页
        1.3.3 在石油化学工业方面的应用第18-19页
        1.3.4 在机械汽车工业方面的应用第19页
    1.4 化学镀应用前景第19-20页
    1.5 课题意义及研究内容第20-22页
        1.5.1 课题意义第20页
        1.5.2 研究内容第20-22页
第2章 实验方法第22-30页
    2.1 实验材料及设备第22-23页
        2.1.1 实验材料和化学试剂第22页
        2.1.2 实验仪器设备和装置第22-23页
    2.2 制备复合镀层的工艺流程及技术路线第23-24页
        2.2.1 制备复合镀层的工艺流程第23-24页
        2.2.2 制备复合镀层的技术路线第24页
    2.3 化学镀液的组成及配制第24-26页
        2.3.1 化学镀镍液的组成及配制第24-25页
        2.3.2 化学镀钯液的组成及配制第25-26页
        2.3.3 无氰化学镀金液的组成及配制第26页
    2.4 镀层表征方法第26-30页
        2.4.1 表面形貌及镀层成分分析第26-27页
        2.4.2 镀层横截面观察第27页
        2.4.3 镀层组织结构分析第27页
        2.4.4 镀层沉积速率第27页
        2.4.5 孔隙率的测定第27页
        2.4.6 镀层结合力等级第27-28页
        2.4.7 镀层显微硬度第28页
        2.4.8 镀层的耐蚀性第28页
        2.4.9 镀层电性能第28-30页
第3章 前处理工艺对纯铜表面化学镀镍磷镀层的影响第30-40页
    3.1 除油工艺对化学镀镍的影响第30-31页
    3.2 酸洗工艺对化学镀镍的影响第31-34页
    3.3 活化工艺对化学镀镍的影响第34-39页
        3.3.1 活化方法对化学镀镍的影响第34-36页
        3.3.2 铁丝活化的原理第36-37页
        3.3.3 铁丝与纯铜基体的接触时间对化学镀镍的影响第37-39页
    3.4 本章小结第39-40页
第4章 纯铜表面化学镀镍研究第40-64页
    4.1 施镀工艺条件的确定第40-44页
        4.1.1 p H值第40-41页
        4.1.2 温度第41-42页
        4.1.3 搅拌速度第42-43页
        4.1.4 施镀时间第43-44页
    4.2 主盐和还原剂浓度范围的确定第44-46页
        4.2.1 主盐浓度范围的确定第44-45页
        4.2.2 还原剂浓度范围的确定第45-46页
    4.3 基础工艺配方的优化第46-52页
        4.3.1 优化实验设计第46-47页
        4.3.2 实验结果及分析第47-51页
        4.3.3 优化后基础配方的确定第51-52页
        4.3.4 稳定剂最佳浓度的确定第52页
    4.4 化学镀镍磷镀层第52-56页
        4.4.1 化学镀镍磷镀层微观分析第52-55页
        4.4.2 化学镀镍磷镀层晶体结构第55-56页
    4.5 热处理对优化后的化学镀镍磷镀层的影响第56-62页
        4.5.1 热处理温度的确定第56页
        4.5.2 热处理对镀层微观形貌的影响第56-58页
        4.5.3 热处理对镀层组织结构的影响第58-60页
        4.5.4 热处理对镀层显微硬度的影响第60-61页
        4.5.5 热处理对镀层结合力的影响第61-62页
        4.5.6 热处理对对后续化学镀钯和无氰化学镀金的影响第62页
    4.6 本章小结第62-64页
第5章 镍层表面化学镀钯 /金 研究第64-88页
    5.1 化学镀钯基础工艺配方的确定第64-65页
        5.1.1 工艺条件的确定第64-65页
        5.1.2 基础配方的确定第65页
    5.2 化学镀钯基础配方的优化第65-72页
        5.2.1 优化实验设计第65-66页
        5.2.2 实验结果与分析第66-69页
        5.2.3 优化过程中的关键性问题第69-70页
        5.2.4 化学镀钯层第70-72页
    5.3 无氰化学镀金基础工艺配方的确定第72-74页
        5.3.1 工艺条件的确定第72-73页
        5.3.2 基础配方的确定第73-74页
    5.4 无氰化学镀金基础配方的优化第74-81页
        5.4.1 优化实验设计第74页
        5.4.2 实验结果与分析第74-78页
        5.4.3 优化过程中的关键性问题第78-79页
        5.4.4 优化后的化学镀金层第79-81页
    5.5 金层厚度对复合镀层的影响第81-84页
        5.5.1 对镀层形貌的影响第81-83页
        5.5.2 对镀层电阻率的影响第83页
        5.5.3 对镀层耐蚀性的影响第83-84页
    5.6 热处理对复合镀层的影响第84-86页
        5.6.1 对镀层形貌的影响第84-85页
        5.6.2 对镀层组织结构的影响第85-86页
        5.6.3 对镀层性能的影响第86页
    5.7 本章小结第86-88页
第6章 复合镀层与商品金手指测试片的对比第88-95页
    6.1 镀层构成的对比第88-90页
    6.2 镀层组织结构的对比第90-91页
    6.3 镀层性能的对比第91-94页
        6.3.1 电阻率第91-92页
        6.3.2 点触通电疲劳性能第92页
        6.3.3 耐蚀性第92-93页
        6.3.4 结合力第93-94页
    6.4 本章小结第94-95页
结论第95-96页
参考文献第96-102页
致谢第102-103页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第103页

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