| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 研究背景及文献综述 | 第12-24页 |
| 1.1 铁电材料概述 | 第12-20页 |
| 1.1.1 铁电体 | 第12-13页 |
| 1.1.2 铁电薄膜概述 | 第13-14页 |
| 1.1.3 铁电薄膜的应用 | 第14-16页 |
| 1.1.4 铁电薄膜的界面 | 第16-17页 |
| 1.1.5 择优取向的铁电薄膜 | 第17-19页 |
| 1.1.6 铁电薄膜的电极 | 第19-20页 |
| 1.2 SRO材料 | 第20-22页 |
| 1.2.1 SRO的结构与性质 | 第20-21页 |
| 1.2.2 SRO薄膜的研究现状与应用 | 第21-22页 |
| 1.3 本文的研究目的和主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 材料的制备和性能测试 | 第24-32页 |
| 2.1 磁控溅射法制备薄膜 | 第24-27页 |
| 2.1.1 磁控溅射法原理 | 第24-25页 |
| 2.1.2 陶瓷靶材的制备 | 第25-27页 |
| 2.2 顶电极的制备 | 第27页 |
| 2.3 样品的表征与测试 | 第27-32页 |
| 2.3.1 薄膜的微观结构分析方法 | 第27-29页 |
| 2.3.2 薄膜的电性能测试 | 第29-30页 |
| 2.3.3 薄膜的磁学性能测试 | 第30-32页 |
| 第三章 硅基SRO薄膜的取向生长控制与性能研究 | 第32-50页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 工艺参数对SRO薄膜的影响 | 第32-38页 |
| 3.2.1 SiO_2/Si衬底上沉积的SRO薄膜 | 第33-36页 |
| 3.2.2 LNO(300nm)/SiO_2/Si衬底上沉积的SRO薄膜 | 第36-38页 |
| 3.3 不同厚度的LNO缓冲层对SRO薄膜的影响 | 第38-49页 |
| 3.3.1 不同厚度的LNO薄膜的结构分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 LNO底电极对SRO薄膜结构的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.3 LNO底电极对SRO薄膜磁学性能的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.4 LNO底电极对SRO薄膜电输运性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 小结 | 第49-50页 |
| 第四章 不同衬底上不同取向的SRO薄膜的研究 | 第50-60页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2 实验方法 | 第51页 |
| 4.3 不同衬底上SRO薄膜的结构 | 第51-56页 |
| 4.3.1 单晶SrTiO_3衬底上生长的SRO薄膜的结构 | 第51-53页 |
| 4.3.2 硅基SRO薄膜和STO基SRO薄膜的残余应力分析 | 第53-56页 |
| 4.4 磁学性能 | 第56页 |
| 4.5 电输运特性 | 第56-58页 |
| 4.6 小结 | 第58-60页 |
| 第五章 不同取向的SRO薄膜底电极与PZT铁电薄膜的集成研究 | 第60-68页 |
| 5.1 引言 | 第60-61页 |
| 5.2 实验方法 | 第61-62页 |
| 5.3 不同电极上PZT薄膜的结构 | 第62页 |
| 5.4 不同电极上PZT薄膜的电学性能研究 | 第62-67页 |
| 5.4.1 介电性能 | 第62-63页 |
| 5.4.2 漏电特性 | 第63-65页 |
| 5.4.3 铁电性能 | 第65-66页 |
| 5.4.4 电疲劳特性 | 第66-67页 |
| 5.5 小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 结论 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文与研究成果 | 第76-78页 |
| 专利 | 第76-78页 |
| 作者在攻读硕士学位期间所作的项目 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
