| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 微机电系统及硅微通道板简介 | 第13-20页 |
| 1.1.1 微机电系统简介 | 第13-15页 |
| 1.1.2 硅微通道板简介 | 第15-20页 |
| 1.2 超级电容器简介 | 第20-24页 |
| 1.2.1 超级电容器的特点 | 第20页 |
| 1.2.2 超级电容器的分类 | 第20-21页 |
| 1.2.3 超级电容器的原理 | 第21-23页 |
| 1.2.4 有机/无机电解液概述 | 第23-24页 |
| 1.3 本文研究内容与意义 | 第24-27页 |
| 第二章 硅微通道板的制备及表征方法 | 第27-35页 |
| 2.1 硅微通道板的制备工艺流程 | 第27-33页 |
| 2.1.1 硅微通道板制备原理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 硅微通道板制备流程 | 第28-33页 |
| 2.2 主要形貌表征和电化学表征手段 | 第33-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 硅微通道板在微光信号探测方面的应用 | 第35-50页 |
| 3.1 基于硅微通道板的光电倍增管制备流程 | 第35-40页 |
| 3.2 硅微通道板表面形貌改善 | 第40-49页 |
| 3.2.1 光刻对准 | 第40-41页 |
| 3.2.2 平整度与洁净度 | 第41-45页 |
| 3.2.3 各膜层厚度 | 第45-46页 |
| 3.2.4 二次发射层 | 第46-47页 |
| 3.2.5 发射短路 | 第47-49页 |
| 3.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 硅微通道板在超级电容储能方面的应用 | 第50-70页 |
| 4.1 硅微通道板的修饰 | 第50-52页 |
| 4.1.1 集流层制备原理 | 第50-51页 |
| 4.1.2 集流层制备流程 | 第51-52页 |
| 4.2 MnO_2/Ni/Si-MCPs单电极的制备及其在无机电解液中的性能 | 第52-58页 |
| 4.3 MnO_2/Ni/Si-MCPs全电容的制备及其在有机电解液中的性能 | 第58-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-73页 |
| 5.1 总结 | 第70-71页 |
| 5.2 改进与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利目录 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |