OLED用高品质ITO薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·透明导电薄膜简介 | 第12-14页 |
| ·ITO薄膜简介 | 第14-18页 |
| ·TCO材料的发展及ITO在TCO材料中的现状 | 第14-15页 |
| ·ITO的结构和性能 | 第15-16页 |
| ·ITO薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·OLED器件及其阳极 | 第18-22页 |
| ·OLED简介 | 第18-20页 |
| ·OLED基本结构及发光原理 | 第20-21页 |
| ·OLED对透明导电阳极的要求 | 第21-22页 |
| ·OLED用ITO薄膜研究现状 | 第22-25页 |
| ·ITO光电性能的提高 | 第22-23页 |
| ·ITO薄膜表面粗糙度的改善 | 第23-24页 |
| ·ITO薄膜功函数的提高 | 第24-25页 |
| ·本论文的研究目的和研究内容 | 第25-27页 |
| ·研究目的和意义 | 第25页 |
| ·研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 ITO薄膜的制备与表征 | 第27-41页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统 | 第27-34页 |
| ·磁控溅射系统及工作原理 | 第27-30页 |
| ·直流脉冲电源和离子源的工作原理及特点 | 第30-33页 |
| ·参数的控制和调节 | 第33-34页 |
| ·ITO薄膜的制备及处理 | 第34-35页 |
| ·ITO薄膜的制备流程 | 第34-35页 |
| ·ITO薄膜的后期处理 | 第35页 |
| ·ITO薄膜的表征 | 第35-40页 |
| ·ITO薄膜光电性能表征 | 第35-37页 |
| ·ITO薄膜结构成分表征 | 第37-39页 |
| ·ITO薄膜表面形貌及表面功函数表征 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 直流脉冲磁控溅射ITO薄膜光电性能研究 | 第41-85页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·InO_x薄膜的光电性能研究 | 第41-47页 |
| ·O_2流量对InO_x薄膜光电性能的影响 | 第41-44页 |
| ·工作气压对InO_x薄膜光电性能的影响 | 第44-45页 |
| ·基片温度对InO_x薄膜光电性能的影响 | 第45-46页 |
| ·InO_x薄膜与ITO薄膜光电性能对比 | 第46-47页 |
| ·02 流量对ITO薄膜光电性能的影响 | 第47-52页 |
| ·薄膜厚度对ITO薄膜光电性能的影响 | 第52-57页 |
| ·ITO薄膜沉积参数的正交实验光电性能分析 | 第57-64页 |
| ·正交实验法简介 | 第57-58页 |
| ·ITO薄膜正交实验设计与表征 | 第58-60页 |
| ·ITO薄膜正交实验结果分析 | 第60-64页 |
| ·基片温度对ITO薄膜光电性能的影响 | 第64-70页 |
| ·沉积速率与晶体结构 | 第64-66页 |
| ·光电性能 | 第66-70页 |
| ·溅射功率对ITO薄膜光电性能的影响 | 第70-76页 |
| ·沉积速率与晶体结构 | 第71-73页 |
| ·光电性能 | 第73-76页 |
| ·工作气压对ITO薄膜光电性能的影响 | 第76-80页 |
| ·沉积速率与晶体结构 | 第77-78页 |
| ·光电性能 | 第78-80页 |
| ·其它沉积参数对ITO薄膜光电性能的影响 | 第80-83页 |
| ·靶基距 | 第80-81页 |
| ·本底真空 | 第81-82页 |
| ·基片表面处理 | 第82-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 第四章 ITO薄膜表面形貌研究 | 第85-113页 |
| ·引言 | 第85页 |
| ·薄膜的表面粗糙度理论 | 第85-87页 |
| ·表面粗糙度表示方法 | 第85-86页 |
| ·粗糙度指数及生长指数 | 第86-87页 |
| ·沉积参数对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第87-96页 |
| ·基片温度对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第87-89页 |
| ·孔洞状ITO薄膜的形成原因分析 | 第89-92页 |
| ·其它沉积参数对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第92-96页 |
| ·ITO薄膜的生长机制 | 第96-104页 |
| ·基片的选择 | 第96-97页 |
| ·成核与生长过程分析 | 第97-101页 |
| ·ITO薄膜表面形貌演化动力学的标度分析 | 第101-103页 |
| ·Si基片与玻璃基片的对比分析 | 第103-104页 |
| ·ITO薄膜表面形貌的后期处理 | 第104-111页 |
| ·快速热处理对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第104-106页 |
| ·离子源处理对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第106-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 第五章 ITO薄膜表面功函数研究 | 第113-119页 |
| ·引言 | 第113页 |
| ·功函数及其表征 | 第113-114页 |
| ·表面处理对ITO薄膜功函数的影响 | 第114-118页 |
| ·离子源处理对ITO薄膜表面功函数的影响 | 第115-117页 |
| ·溶液处理对ITO薄膜表面功函数的影响 | 第117-118页 |
| ·本章小结 | 第118-119页 |
| 结论 | 第119-121页 |
| 本文创新点 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-130页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第130-131页 |
| 致谢 | 第131页 |
