| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·气敏传感器 | 第9-14页 |
| ·气敏传感器定义 | 第9页 |
| ·气敏传感器分类 | 第9-10页 |
| ·气敏传感器特性参数 | 第10-13页 |
| ·半导体气敏传感器研究进展和发展趋势 | 第13-14页 |
| ·多孔硅基气敏传感器 | 第14-16页 |
| ·多孔硅 | 第14-16页 |
| ·多孔硅基气敏传感器的发展 | 第16页 |
| ·本文研究目标及研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验方法与理论 | 第18-32页 |
| ·有序多孔硅 | 第18-26页 |
| ·有序多孔硅的制备方法 | 第18-21页 |
| ·有序多孔硅的形成机理 | 第21-26页 |
| ·氧化钨薄膜 | 第26-28页 |
| ·氧化钨薄膜的制备方法 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第27-28页 |
| ·气敏机理 | 第28-29页 |
| ·分析测试手段 | 第29-32页 |
| ·X射线衍射分析 | 第29-30页 |
| ·场发射扫描电子显微分析 | 第30页 |
| ·傅里叶变换红外光谱（FT-IR）分析 | 第30-31页 |
| ·气敏测试系统 | 第31-32页 |
| 第三章 n型有序多孔硅的制备及气敏性能研究 | 第32-46页 |
| ·n型有序多孔硅气敏传感器制备 | 第32-34页 |
| ·清洗硅片 | 第32-33页 |
| ·制备有序多孔硅 | 第33-34页 |
| ·制备点电极 | 第34页 |
| ·微观测试分析 | 第34-38页 |
| ·SEM形貌分析 | 第34-37页 |
| ·傅里叶变换红外光谱分析 | 第37-38页 |
| ·气敏性能测试 | 第38-45页 |
| ·对NO2的气敏性能研究 | 第38-41页 |
| ·对NH3的气敏性能研究 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 n型有序多孔硅基氧化钨薄膜复合结构气敏性能研究 | 第46-55页 |
| ·复合结构的制备 | 第46-47页 |
| ·微观测试分析 | 第47-48页 |
| ·X射线衍射分析 | 第47-48页 |
| ·SEM形貌分析 | 第48页 |
| ·复合结构气敏性能测试 | 第48-54页 |
| ·对NO_2的气敏性能研究 | 第48-51页 |
| ·复合结构气敏选择性研究 | 第51页 |
| ·复合结构对NO2的气敏稳定性研究 | 第51-52页 |
| ·气敏机理分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·总结与讨论 | 第55-56页 |
| ·工作展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |