金属（银，铜，镍和钴）纳米线的制备及其生长机理
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·金属纳米线的主要应用 | 第9-10页 |
| ·电子器件方面的应用 | 第9-10页 |
| ·传感器方面的应用 | 第10页 |
| ·一维巨磁电阻材料 | 第10页 |
| ·金属纳米线的合成方法 | 第10-12页 |
| ·软模板法 | 第11页 |
| ·硬模板法 | 第11-12页 |
| ·非模板法 | 第12页 |
| ·现今制备金属纳米线研究的不足 | 第12-13页 |
| ·本论文主要研究的问题及创新点 | 第13-14页 |
| 第二章 阳极氧化法合成多孔氧化铝模板 | 第14-26页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·多孔氧化铝模板的制备过程 | 第14-18页 |
| ·试剂和仪器 | 第14-15页 |
| ·前期处理 | 第15页 |
| ·阳极氧化过程 | 第15-17页 |
| ·后续处理 | 第17-18页 |
| ·影响多孔氧化铝模板的因素 | 第18-25页 |
| ·铝片前期处理对多孔氧化铝模板的影响 | 第18页 |
| ·氧化过程对多孔氧化铝模板的影响 | 第18-23页 |
| ·后续处理对多孔氧化铝模板的影响 | 第23页 |
| ·制备不同形状的氧化铝模板 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 电化学沉积制备金属纳米线 | 第26-42页 |
| ·引言 | 第26-28页 |
| ·金属纳米线的制备及表征 | 第28-34页 |
| ·试剂和仪器 | 第28-29页 |
| ·银纳米线的制备与表征 | 第29-30页 |
| ·铜纳米线的制备与表征 | 第30-31页 |
| ·镍纳米线的制备与表征 | 第31-33页 |
| ·钴纳米线的制备与表征 | 第33-34页 |
| ·影响金属纳米线生长的电沉积条件 | 第34-38页 |
| ·沉积电压对金属纳米线生长的影响 | 第35-36页 |
| ·沉积温度对金属纳米线生长的影响 | 第36-38页 |
| ·电解液浓度和pH值对金属纳米线生长的影响 | 第38页 |
| ·高温氧化金属纳米线制备金属氧化物纳米线 | 第38-40页 |
| ·制备过程 | 第39页 |
| ·金属氧化物纳米线的表征 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 金属纳米线生长机理研究 | 第42-51页 |
| ·电化学沉积的理论 | 第42-45页 |
| ·电化学沉积进行的地点 | 第42-43页 |
| ·电化学沉积过程的动力 | 第43-44页 |
| ·金属晶体成核和生长过程 | 第44-45页 |
| ·电化学沉积的结构和性质 | 第45页 |
| ·金属纳米线的生长模型 | 第45-50页 |
| ·金属纳米线沿(220)晶面生长的机理 | 第46-49页 |
| ·金属纳米线在不同沉积电压时的生长机理 | 第49页 |
| ·金属纳米线在不同沉积温度时的生长机理 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
| ·论文总结 | 第51-52页 |
| ·工作展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
