| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·金刚石的结构、性能及应用 | 第11-14页 |
| ·CVD 制备金刚石膜的常用方法 | 第14-17页 |
| ·热丝化学气相沉积（HFCVD） | 第14-15页 |
| ·直流电弧等离子喷涂化学气相沉积（DC arc plasma jet CVD） | 第15页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积（MPCVD） | 第15-17页 |
| ·CVD 金刚石膜的沉积机理 | 第17-20页 |
| ·CVD 金刚石膜沉积过程的检测方法 | 第20-23页 |
| ·激光原位诊断 | 第20-21页 |
| ·质谱法 | 第21-22页 |
| ·等离子体发射光谱法 | 第22-23页 |
| ·本工作的目的和意义 | 第23-25页 |
| 第2章 实验装置及实验方法 | 第25-31页 |
| ·实验装置 | 第25-28页 |
| ·CH_4/H_2微波等离子体光谱分析实验方法 | 第28页 |
| ·CH_4/H_2微波等离子体基团分布均匀性分析实验方法 | 第28页 |
| ·CH_4/H_2/Ar 和 CH_4/H_2/He 沉积金刚石光谱分析实验方法 | 第28-31页 |
| 第3章 CH_4/H_2微波等离子体光谱分析 | 第31-37页 |
| ·微波等离子体沉积金刚石的基团分析 | 第31-32页 |
| ·沉积过程中基团的空间分布情况 | 第32-33页 |
| ·甲烷浓度对沉积过程中基团含量的影响 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 CH_4/H_2微波等离子体基团分布均匀性分析 | 第37-47页 |
| ·沉积金刚石过程中分析基团的选取 | 第37-38页 |
| ·气压对沉积过程基团分布均匀性的影响 | 第38-42页 |
| ·甲烷浓度对沉积过程基团分布均匀性的影响 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 CH_4/H_2/Ar 和 CH_4/H_2/He 沉积金刚石光谱分析 | 第47-59页 |
| ·CH_4/H_2/Ar 微波等离子体光谱分析 | 第47-50页 |
| ·CH_4/H_2/Ar 微波等离子体沉积金刚石 | 第50-53页 |
| ·CH_4/H_2/He 微波等离子体光谱分析 | 第53-55页 |
| ·CH_4/H_2/He 微波等离子体沉积金刚石 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第59-61页 |
| ·论文总结 | 第59-60页 |
| ·论文展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
