| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| ·金刚石的结构、性能及应用 | 第11页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第11-17页 |
| ·金刚石的优异性能及其应用 | 第12-17页 |
| ·CVD 金刚石膜的应用 | 第17-22页 |
| ·CVD 金刚石膜的沉积方法及沉积机理 | 第22-29页 |
| ·CVD 金刚石膜的沉积方法 | 第22-24页 |
| ·MPCVD 技术的相关介绍 | 第24-25页 |
| ·CVD 金刚石膜的沉积机理 | 第25-29页 |
| ·论文的主要研究内容及意义 | 第29-31页 |
| 第2章 MPCVD 装置及表征技术 | 第31-37页 |
| ·MPCVD 装置的结构与原理 | 第31-34页 |
| ·本文中 MPCVD 装置的介绍 | 第31-33页 |
| ·金刚石膜的形核及生长工艺 | 第33-34页 |
| ·金刚石膜常用的表征技术 | 第34-37页 |
| ·光学显微镜 | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第35-36页 |
| ·X 射线衍射 | 第36-37页 |
| 第3章 形核密度对金刚石薄膜表面形貌及其质量的影响 | 第37-49页 |
| ·形核参数对金刚石膜形核密度的影响 | 第37-40页 |
| ·碳源浓度对金刚石膜形核密度的影响 | 第38-40页 |
| ·形核时间对金刚石膜形核密度的影响 | 第40页 |
| ·形核密度对金刚石薄膜表面形貌及其质量的影响 | 第40-47页 |
| ·形核密度对金刚石薄膜表面形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·形核密度对金刚石薄膜晶粒取向和质量的影响 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 工艺参数对金刚石薄膜质量的影响 | 第49-59页 |
| ·碳源浓度对金刚石薄膜表面形貌和质量的影响 | 第49-52页 |
| ·沉积温度对金刚石薄膜表面形貌及质量的影响 | 第52-55页 |
| ·氧气对金刚石膜生长的影响 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第59-61页 |
| ·论文总结 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |