基于BEM的腔内电阻抗成像的仿真研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
§1-1 腔内电阻抗成像技术的研究目的和意义 | 第8-9页 |
§1-2 EIE 的数值计算方法 | 第9-11页 |
1-2-1 正问题数值计算方法概述 | 第9-10页 |
1-2-2 逆问题数值计算方法概述 | 第10-11页 |
§1-3 本论文的主要工作 | 第11-12页 |
第二章 腔内电阻抗成像正问题的边界元法求解 | 第12-29页 |
§2-1 EIE 正问题的数学描述 | 第12-13页 |
§2-2 边界元法的基本理论 | 第13-18页 |
2-2-1 边界元法基础知识 | 第14-15页 |
2-2-2 边界积分方程的导出 | 第15-18页 |
§2-3 边界元求解算法 | 第18-21页 |
§2-4 多层介质的 BEM 计算 | 第21-24页 |
§2-5 EIE 正问题仿真结果与分析 | 第24-28页 |
2-5-1 仿真模型的建立 | 第24-26页 |
2-5-2 仿真结果与分析 | 第26-28页 |
§2-6 本章小结 | 第28-29页 |
第三章 模型的参数化表达方法研究 | 第29-33页 |
§3-1 参数化方法的基本概念 | 第29-30页 |
3-1-1 参数化的概念 | 第29页 |
3-1-2 参数化的发展 | 第29页 |
3-1-3 参数化方法的分类 | 第29-30页 |
3-1-4 参数化的应用 | 第30页 |
§3-2 EIE 模型的参数化表达 | 第30-32页 |
3-2-1 二维模型的参数化表达 | 第30-32页 |
3-2-2 三维模型的参数化表达 | 第32页 |
§3-3 本章小结 | 第32-33页 |
第四章 应用微分进化算法进行 EIE 成像研究 | 第33-44页 |
§4-1 微分进化算法 | 第33-36页 |
4-1-1 DE 算法简介 | 第33-34页 |
4-1-2 基本微分进化算法 | 第34-35页 |
4-1-3 DE 的其它形式 | 第35页 |
4-1-4 控制参数的选择 | 第35页 |
4-1-5 整体流程 | 第35-36页 |
§4-2 微分进化算法的求解 | 第36-37页 |
4-2-1 建立初始化种群 | 第37页 |
4-2-2 评价函数的定义 | 第37页 |
§4-3 仿真实验与结果 | 第37-43页 |
§4-4 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 结论 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-47页 |
致谢 | 第47-48页 |
攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第48页 |