| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-36页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·Ge_(1-x)C_x薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·Ge_(1-x)C_x薄膜的结构和成键特点 | 第12-18页 |
| ·Ge_(1-x)C_x薄膜的光学和力学特性 | 第18-35页 |
| ·研究依据及主要研究内容 | 第35-36页 |
| 第二章 Ge_(1-x)C_x薄膜的磁控溅射制备及表征方法 | 第36-44页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第36-38页 |
| ·磁控溅射法制备 Ge_(1-x)C_x薄膜的实验条件 | 第38-40页 |
| ·Ge_(1-x)C_x薄膜样品的表征方法 | 第40-44页 |
| 第三章 Ge_(1-x)C_x薄膜 Urbach 带尾宽度的影响因素及物理机制研究 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验详述 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 沉积条件及真空退火对 Ge_(1-x)C_x薄膜表面形貌的影响研究 | 第54-72页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·衬底温度的影响 | 第54-59页 |
| ·溅射压强的影响 | 第59-63页 |
| ·射频功率的影响 | 第63-68页 |
| ·真空退火的影响 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-86页 |
| 作者简介及硕士期间所取得的科研成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
