| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·磁盘记录介质的发展 | 第9-15页 |
| ·新型Sm Co 高密度磁记录介质研究概况 | 第15-19页 |
| ·本文的主要内容及结构安排 | 第19-21页 |
| 2 提高磁记录介质性能的基本途径和方法 | 第21-26页 |
| ·介质的热稳定性问题 | 第21-22页 |
| ·提高磁记录密度的基本途径 | 第22-24页 |
| ·提高信噪比的基本方法 | 第24-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 3 薄膜样品的制备及分析测试 | 第26-34页 |
| ·磁控溅射仪基本原理 | 第26-27页 |
| ·样品的制备 | 第27-29页 |
| ·样品的结构及其性能测试 | 第29-34页 |
| 4 Sm Co / Cu 面内磁化膜的研究 | 第34-39页 |
| ·SmCo 与Cu 底层溅射速率的研究 | 第34页 |
| ·Cu 底层的制备工艺 | 第34-35页 |
| ·SmCo 磁性层成分调整 | 第35-36页 |
| ·制备工艺对Sm Co/Cu 面内磁化膜的性能影响 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 5 Sm Co / Cu 垂直磁化膜的初步研究 | 第39-48页 |
| ·制备高度择优取向Cu(111)薄膜底层 | 第39-44页 |
| ·Sm Co / Cu 垂直磁化膜的性能研究 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 6 总结 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第55页 |